滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片，但其他应用对高密度的需求同样不可小觑，因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力

Intel、台积电已下单荷兰半导体设备厂商ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备

发货速度快，包装严实，刻录机做工很精致，装上很好用，就是没有送刻录软件。替换了原来的内置光驱，完美安装上后，开机自动识别，无需任何操作（win7）

正合适，价格也不贵，现在用刻录机的少了，市面上的刻录机良莠不齐，水货很多，质量也没有保证，考虑很久，还是不从实体店买了，这款目前使用很好，没出现刻录废碟，点赞

很好用，而且用了一段时间了还没坏，我们经常用，也经常会用坏，所以买这个很划算 稳定性能：好

所谓high-NA即高数值孔径，从当前的0.33提升到0.55，从而允许更紧密的电路图案（2nm及以下）和更高的生产效率

据报道，高NA EUV光刻机系统的单台造价将在3亿到3.5亿欧元之间，约合人民币21.95到25.61亿元

特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用

ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术

在京东买过好多次刻录机，因为用的比较频繁，最满意的就是京东的售后，电子产品一般都会在京东购买。在电子产品这方面，京东是体验最好的网站没有之一。

归根结底还是我们的晶体管密度需求仍在不断攀升，但我们需要明白这个需求并不是线性增长的

新世纪的20年代，很可能成为深度技术发展的黄金十年，比如边缘AI芯片、基于CMOS的NIR/SWIR成像器、光电集成的片上激光雷达等等

一直用先锋刻录机，09年卖的刻录机现在读片困难了，只能换新了。新机很好，价格便宜，满意，性能很好，不但能够读光盘还能刻录光盘，非常的实用，孩子学校发的光盘可以使用了

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用光刻机物理极限

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用芯片光刻机哪国进口

这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍

此前就有调侃说，一台EUV光刻系统相当于一架F22/35战机

此前Intel表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了，三星和SK海力士则尚未表态

如今的深度学习在大规模模型的爆发下，所需算力每几个月就会翻一番，但现在能效比已经成了优先级更高的指标，要想同时满足性能和算力的话，主要方法有四种：一是换一种系统级计算架构，比如DSA架构；二是充分利用3D设计，也就是我们常说的3D封装和堆叠技术；三是从晶体管架构上创新，譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等；第四个则是目前看来最快捷的一条路线，通过光刻技术的发展直接提升密度

稳定性能：非常稳定 读盘速度：速度快 读盘声音：无噪音 外形外观：精致美观 轻薄程度：轻薄

先锋外置刻录机很快到货，还没试用。以前买过好几台先锋光驱和刻录机，挺好用。不是第一次买了，这个品牌真是刻录机中的第一品牌，上一个用了5年，终于到年头可以换了，好用的很！好评！

这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍

一直信赖先锋品牌，做影视传媒的必须用到光驱，非常好用，即插即用，读盘飞快，声音也很轻，速度快，使用稳定，刻dvd和bd都非常好用，没有飞盘，脱离。推荐朋友也用这个品牌，性价比超高，而且几乎也没有声音，稳定用几年不出故障，京东物流速度也非常快，十几年前就用先锋光驱，这也是一中情怀，下次光驱依然还是先锋，就这价钱和这服务，完美！

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成

据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦

归根结底还是我们的晶体管密度需求仍在不断攀升，但我们需要明白这个需求并不是线性增长的

新世纪的20年代，很可能成为深度技术发展的黄金十年，比如边缘AI芯片、基于CMOS的NIR/SWIR成像器、光电集成的片上激光雷达等等

?直接从主机前面的口插进去的，插上线，开机放碟，立马就可以用了。很快。目前没什么问题。

3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元，比今年（12亿美元）增加20倍以上

目前，三星电子是唯一一家宣布成功量产3纳米的企业

三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备，随着工程技术的发展，预计3纳米将成为核心先进工艺

对于High-NA EUV技术之后的技术方案，ASML正在研究降低波长，但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方，其制造和使用成本都高得惊人，且不一定能真正投入生产，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头

读盘速度：非常好 产品包装：简单便捷 外形外观：大气耐看 读盘声音：还可以 稳定性能：新的

为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看，即便工艺没有太大的变化，芯片的性能仍在稳步提升，有的是从架构上找到了创新，有的选择了改善带宽之类的性能

但我们也都能看出，其中有一部分产品选择了走大规模的路线，比如苹果的M1 Ultra

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成

据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦