3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元,比今年(12亿美元)增加20倍以上
三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备,随着工程技术的发展,预计3纳米将成为核心先进工艺
对于High-NA EUV技术之后的技术方案,ASML正在研究降低波长,但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA,可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方,其制造和使用成本都高得惊人,且不一定能真正投入生产,当前半导体光刻技术之路或已走到尽头
很好的刻录机,刻录盘时声音很低,刻盘成功率高。质量不错,安装简单,稳定性也很好,读碟速度快,值得推荐
先锋刻录机很好,上一个用了7年多才坏,现在换一个新的。很好用,读取速度很快,不愧是大牌子!
为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看,即便工艺没有太大的变化,芯片的性能仍在稳步提升,有的是从架构上找到了创新,有的选择了改善带宽之类的性能
但我们也都能看出,其中有一部分产品选择了走大规模的路线,比如苹果的M1 Ultra
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国际品牌日本先锋,光储存行业老牌巨头出品的入门级内置式DVD刻录机,兼容CD、VCD、DVD读取,CD-R、CD-RW写入,DVD-R、DVD RW双层写入,读盘性能稳定,迅速安静,后背为铝制外壳,非常坚固,还附带安装螺丝,非常高性价比的一款DVD刻录机!强烈推荐!
归根结底还是我们的晶体管密度需求仍在不断攀升,但我们需要明白这个需求并不是线性增长的
新世纪的20年代,很可能成为深度技术发展的黄金十年,比如边缘AI芯片、基于CMOS的NIR/SWIR成像器、光电集成的片上激光雷达等等
光刻机最核心技术
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2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用
这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍