滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

前几天卖了2部先锋刻录机很好用，刻录光盘快，很好。先锋大牌声音很轻，感觉稳稳的，现在很少有上翻盖的光驱了，不错

超级好的光速啊，十年前买的一个一直都在用，用不坏的先锋，还会再买这个牌子的。。。。

其实荷兰政府不遵从美国人的政策，这才是正常的

中国是世界上最大的半导体市场，荷兰凭什么因为美国的一句话，就放弃赚大钱的机会

在对华封锁这一问题上，美国人总是对自己的盟友，提出各种苛刻的要求，而自己却没有任何的筹码，这让其他国家怎么可能老老实实地听美国的，如此一来，拜登对华封锁计划自然会被撕破

这款自营的先锋刻录机最新升级版本，24倍的刻录速度。先锋的刻录机质量还不错，以前经常使用先锋的刻录机，机器性能稳定耐用，这次帮朋友选刻录机，正好看到京东这款升级版的刻录机，果断下单拿下。京东自营的产品送货速度很快，自营的产品质量还是有保障的，五分好评！

与ASML的EUV光刻机相比，我们就像是拿着一把盒尺，想要测量国际米原器的精度一样

不打破技术壁垒，难度之大，可想而知

美国人为了遏制我们在半导体领域的发展，不但限制ASML出口给中国EUV光刻机，就连采用深紫外光的DUV光刻机都限制对我国出口

光刻机是芯片制造环节的一种关键设备，在芯片的工艺制程上，也主要是由光刻机来决定的

根据芯片制造环节的不同，可以分为前道光刻机和后道光刻机，ASML的优势在于前道光刻机，而我国上海微电子的优势，则是后道光刻机

其中决定芯片制程的就是前道光刻机，所以由于ASML使用了部分老美的技术，因此EUV光刻机就受到修改芯片规则的制约，无法出货大陆中企

先锋老牌子，读碟稳定，写碟快，噪音也很低，满意满意。很好用，噪音小，速度快，送货很快，最重要的是便宜。

所以对于ASML来说，让DUV光刻机也去适配修改后的芯片规则，没有任何意义，只会是让ASML丢失大量的市场和营收

做工很好，十年前买的先锋刻录机有点光头老化，再买一个用，完美，非常满意！京东物流就不用说了，快！光驱手感好，整体轻薄，使用时声音小，速度快，非常好用的一款！

很满意的一次购物，商家服务好，发货神速，物流也很给力，宝贝收到后非常喜欢，买得放心，用得安心当时买的时候还在犹豫价格，买来之后一点都不后悔，而且物流还快，可以入手

光刻机到底是什么东西

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

这里的3纳米是指节点技术的关键尺寸，指的是栅极长度（gate length），也就是单个晶体管的长度

这个长度越小，意味着在同样面积的晶圆上可以布置的晶体管越多

栅极的缩小是提升器件开断频率的重要方法之一

很好很满意，读碟流畅，之前买的华硕挺挑碟的，正版碟都读不出，这款棒棒的，刻录倒不常用，用移动硬盘多，暂时没有测试

与ASML的EUV光刻机相比，我们就像是拿着一把盒尺，想要测量国际米原器的精度一样

不打破技术壁垒，难度之大，可想而知

这比挖比特币还要费电！我们自己的光刻机做到了什么水平呢？ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外光制程7nm、甚至3nm的芯片

我国主要还是采用深紫外光的193nm制程工艺，能做26nm的芯片

据报道，上海微电子公司已经攻克了14nm光刻机，尽快还达不到国际最先进的光刻机水平，但是在手机、汽车等民用领域，以及武器装备用的芯片上，我们已经可以自给自足

之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，

反射镜的作用是把模板上的电路图等比例缩小，在硅片上以电路图的形式呈现出来，这是制造芯片的关键元件

ASML公司EUV光刻机的反射镜来自德国的蔡司

EUV多层膜反射镜作为光学系统的重要元件，成为了EUV光源的一项关键技术，需实现EUV波段的高反射率

ASML公司研发出了双工作台，在一个工作台完成扫描曝光的同时，另一个工作台也可以同时进行对准、调焦、下片等操作

在芯片制造过程中，并不是一次曝光就可以完成的，在制造过程中要经历多次曝光，这也就意味着，在芯片制作过程中要进行多次对准操作

芯片的每个元件之间都只有几纳米的间隔，在这种情况下，掩膜与硅晶圆之间的对准误差都必须控制在几纳米范围内

利用紫外线除去晶圆表面的保护膜，这个机器就是光刻机

它就是一个成像设备，能把光源照射到设置好的图像，通过成像系统把电路图形精确复制到晶圆上，从而制造出芯片所需的图形和功能区

原理很简单，关键是需要纳米级别的精确度

中芯国际国产光刻机

很好，轻薄，声音也小，速度不错，还没有拆开用，现在计算机配光驱的不多了，买个外置的特殊场合备用，很是不错

与ASML的EUV光刻机相比，我们就像是拿着一把盒尺，想要测量国际米原器的精度一样

不打破技术壁垒，难度之大，可想而知

美国人为了遏制我们在半导体领域的发展，不但限制ASML出口给中国EUV光刻机，就连采用深紫外光的DUV光刻机都限制对我国出口

包装妥妥的。安装后马上试机，效果非常不错!老牌子不愧为老牌子，抵赞!光驱收到上机试了很稳定，以前一直用先锋DⅤD刻录光驱质量很好。

这比挖比特币还要费电！我们自己的光刻机做到了什么水平呢？ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外光制程7nm、甚至3nm的芯片

我国主要还是采用深紫外光的193nm制程工艺，能做26nm的芯片

据报道，上海微电子公司已经攻克了14nm光刻机，尽快还达不到国际最先进的光刻机水平，但是在手机、汽车等民用领域，以及武器装备用的芯片上，我们已经可以自给自足