这比挖比特币还要费电!我们自己的光刻机做到了什么水平呢?ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外光制程7nm、甚至3nm的芯片
我国主要还是采用深紫外光的193nm制程工艺,能做26nm的芯片
据报道,上海微电子公司已经攻克了14nm光刻机,尽快还达不到国际最先进的光刻机水平,但是在手机、汽车等民用领域,以及武器装备用的芯片上,我们已经可以自给自足
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ASML公司研发出了双工作台,在一个工作台完成扫描曝光的同时,另一个工作台也可以同时进行对准、调焦、下片等操作
最后就是耗电问题
EUV光刻机耗电非常高,它需要把整个工作环境都抽成真空以避免灰尘
频率高了,就意味着芯片跑得更快
我们的头发丝直径大约是 50~70微米,换言之,这种光刻机可以刻画出只有头发丝直径1/5000的线条
目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机(EUV)
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光刻机的工作台控制了芯片在制造生产中的纹路刻蚀,工作台的移动精度越高,所加工的芯片精度就越高
ASML公司的EUV光刻机工作台采用的是一种高精度的激光干涉仪,以此进行微动台的位移测量,构建出一个闭环的控制系统,进而实现纳米级的超精密同步运动
光刻机到底是什么东西
读盘速度:读盘速度快,我喜欢。读盘声音:声音也不大,不像二手的。稳定性能:性能也很稳定。非常好用,以前不能读取的光盘现在可以了。刻录功能是我的首先。还没试,稍后有空再操作!
比起DUV光刻机,它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线,能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸
而EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer,这个13.5nm的极紫外线是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的
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光刻机关键技术突破
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