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光刻机_雕刻机_曝光系统

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用深圳进口光刻机

一直信赖先锋品牌,做影视传媒的必须用到光驱,非常好用,即插即用,读盘飞快,声音也很轻,速度快,使用稳定,刻dvd和bd都非常好用,没有飞盘,脱离。推荐朋友也用这个品牌,性价比超高,而且几乎也没有声音,稳定用几年不出故障,京东物流速度也非常快,十几年前就用先锋光驱,这也是一中情怀,下次光驱依然还是先锋,就这价钱和这服务,完美

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机,大概会在明年某个时间点完成

据悉,High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电,从1.5兆瓦增加到2兆瓦

主要原因是因为光源,High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦,ASML还使用水冷铜线为其供电

携带方便功能强很好用,读碟广泛很好的刻录机。读盘声音:小产品包装:严实稳定性能:稳定外形外观:好读盘速度:很快轻薄程度:适中

这种方式虽然增加了功耗,但对于那些对功耗并不敏感的产品来说,似乎也是可行的一种思路,那么我们真的有必要用到更贵的高NA EUV光刻机进一步提升密度吗?这个问题的答案其实不言而喻了,英特尔、台积电晶圆提前预订的高NA EUV光刻机订单已经证明了它的重要性

读盘速度:十分快 读盘声音:小 稳定性能:十分不错 轻薄程度:刚刚好 外形外观:美观 产品包装:很好

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用深圳进口光刻机

所谓high-NA即高数值孔径,从当前的0.33提升到0.55,从而允许更紧密的电路图案(2nm及以下)和更高的生产效率

据报道,高NA EUV光刻机系统的单台造价将在3亿到3.5亿欧元之间,约合人民币21.95到25.61亿元

对于High-NA EUV技术之后的技术方案,ASML正在研究降低波长,但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA,可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方,其制造和使用成本都高得惊人,且不一定能真正投入生产,当前半导体光刻技术之路或已走到尽头

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末正式商用深圳进口光刻机

归根结底还是我们的晶体管密度需求仍在不断攀升,但我们需要明白这个需求并不是线性增长的

世纪的20年代,很可能成为深度技术发展的黄金十年,比如边缘AI芯片、基于CMOS的NIR/SWIR成像器、光电集成的片上激光雷达等等

产品包装:外观小清新,保护很到位 外形外观:很经典,很商务 稳定性能:非常稳定,无故障

前一个先锋刻录机用了12年装系统读盘报错了。又买个先锋。非常好用。先锋蓝光刻录机己收到,快递物流快,送货上门,很方便

读盘速度:速度很快,先锋还是很不错的 读盘声音:声音很轻柔 稳定性能:刚上机,目前来说还是很稳定的,不出意外应该会很稳定的 轻薄程度:很简洁,做工挺不错的 外形外观:京东的物流向来是很给力,外观很板正,毕竟是大品牌,还是不错的 产品包装:没有任何磕磕碰碰,盒子包装都没有划痕,很给力不错

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