光刻机要用稀土
至于佳能,尼康,则主要集中在最低端的还有UV(i-line)光刻机领域,在次高端的DUV领域,都表现一般
至于国产光刻机,虽然可以用于90nm,但其实晶圆厂们用得非常少,并且主要不是用于前道,也就是晶圆制造这一块,更多是用于后道,比如封测等领域
先锋刻录机中的战斗机,老品牌值得信赖,刻录很稳定,静音,读取数据很快。读盘速度快,声音轻,很稳定。不愧是光驱界的老大。
ArF占88%
而DUV光刻机又分为ArFi光刻机,用于45-7nm;而ArF Dry用于65nm,还有KrF用于180nm等等