很好的刻录机,刻录盘时声音很低,刻盘成功率高。质量不错,安装简单,稳定性也很好,读碟速度快,值得推荐
特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进,预计2025年末将正式商用
ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示,目前公司正有序推行其路线图,在EUV之后是High-NA EUV技术
质量很好,很好用,值得购买,会继续光顾,物流很给力。使用非常方便,刻录非常容易,效果非常不错,很好用