滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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关于金春水教授和他的EUV研发情况，请参考前文：解读国产光刻机困局（四）：长春光机所的EUV光刻机？长光集智光学科技有限公司：团队在长光集智光学科技有限公司股东名单里，我们看到一共有18位自然人股东，共持股20%

办公需要刻录光盘做数据保存，这款读盘能力很强，速度很快，震动不大，有轻微的声音，日常使用基本上不会察觉到；刻录写入时比18x的要快不少，过程很稳定，不会出现数据错误或者写完读不出的情况，购买时还赠送sata数据线，很方便。

长光集智光学的招聘信息（部分）长光集智光学科技有限公司：金春水作为长光集智光学科技有限公司的最大自然人股东，金春水教授出现在中科院《2017年02专项“极紫外光刻关键技术研究”通过验收》的通讯稿里

　　金春水说：“我们建立了较为完善的曝光光学系统关键技术研发平台，圆满完成国家重大专项部署的研究内容与任务目标，实现EUV 光学成像技术跨越，显著提升了我国极紫外光刻核心光学技术水平

京东快递，一如既往的质量保障，送货速度快，快递员态度好，继续支持。已试过，静音速度快，这是我第一个外置光刻一体光驱，真心不错，值得推荐

安装之后下了播放器，使用起来非常顺畅，读取蓝光碟迅速，很棒，先锋电器产品是老牌的品牌 质量可靠 性价比很高 ?评

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

不愧是老牌子，质量杠杠滴，上一个也是买的先锋，用了快十年，还能继续用，这次再买个新的，速度不稳定，忽快忽慢的，但是快起来的时候真快

更令人注意的是一项2018年1月至2021年9月的新项目：六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09王丽萍教授的极紫外光刻研究活动值得注意的是，与上述六镜极紫外光刻投影物镜开发项目同时同期开展的，还有一个国家项目“极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关”

上海光机所主办一个国内核心期刊《激光与光电子学进展》，其中基本涵盖我国激光、光学的主要进展和成果介绍

《激光与光电子学进展》在2022年5月10日出版了专题《光刻技术》，几乎涵盖了我国光刻研究的全面资料

这期的封面便是DUV光学曝光系统的示意图

自己几分钟换好了，刻了几个文件试试，很快，也没什么噪音，很不错，但愿能多用一阵子，先好评

以便更多的读者可以从更系统、更全面的角度去了解我在这个系列撰文里所提出的观点及论述

光刻机运动台控制上海光机所的《激光与光电子学进展》众所周知，上海光机所是我国先进激光技术的顶尖研究单位之一，我曾经在前文详细介绍过上海光机所的极紫外光刻光源相关研究工作

读盘速度：读盘速度很快，并且很稳定。 读盘声音：声音有一些读盘机械转动的声音不是很大。 稳定性能：性能稳定可靠。大品牌的东西一直在用。 轻薄程度：台式机装机内置光驱的性价比最高的大品牌经典产品。是标准内置光驱的大小。 外形外观：金属外观，结构结实。 产品包装：产品包装牢固可靠完好。内置减震泡沫，防止磕碰。新款产品外包装印刷图案区别于老款。

当然，我们在中国的光刻机困局的讨论仅限于核心部件

在这个环节，我将尝试在EUV镜头制造、光学系统制造、光源制造等环节挖掘其瓶颈部分

只有涉及到根本层面时，我们才了解真正打破垄断所需要的软硬件条件，以及限制我国开发光刻机的关键环节

《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》论文中引用的长春光机所极紫外多层膜研究工作极紫外光刻胶研究进展极紫外光刻胶《极紫外（EUV）光刻胶的研发》一文的作者杨国强教授和李嫕教授，分别在中国科学院光化学重点实验室和中国科学院理化技术研究所带领团队开展极紫外光刻胶开发

用起来方便，装好也完美，很契合原机。比较轻薄啊，很轻，读盘性能可以，等着试试刻录

这些专利也在我的前文中做过详细介绍，这里就不赘述了

《光刻技术》刊登的极紫外光源综述论文这篇论文也介绍了长春光机所的最新EUV反射镜及镀膜相关工作，最新的工作包括2020年的两篇论文

我此前介绍过长春光机所进口的德国EUV反射镜镀膜机，也是来自这一系列工作

简单翻阅这些2022年5月最新的中文资料，也可以验证前文论述中所涉及到的资料范围的准确性、及时性、全面性

好使，稳定性能强大，即插即用，很不错的一款产品，给客户买的，收到包装完好，安装简单，读取速度快，很赞

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2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果，展示了30nm和25nm的等线宽线距（L/S）的曝光能力，可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰

而曝光28.8纳米的独立线条，仍可以获得非常高精度的曝光图案

因此，在大约十年时间里，长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具的设计和制造能力，使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发