上海光机所主办一个国内核心期刊《激光与光电子学进展》，其中基本涵盖我国激光、光学的主要进展和成果介绍
《激光与光电子学进展》在2022年5月10日出版了专题《光刻技术》，几乎涵盖了我国光刻研究的全面资料
这期的封面便是DUV光学曝光系统的示意图
自己几分钟换好了，刻了几个文件试试，很快，也没什么噪音，很不错，但愿能多用一阵子，先好评
以便更多的读者可以从更系统、更全面的角度去了解我在这个系列撰文里所提出的观点及论述
光刻机运动台控制上海光机所的《激光与光电子学进展》众所周知，上海光机所是我国先进激光技术的顶尖研究单位之一，我曾经在前文详细介绍过上海光机所的极紫外光刻光源相关研究工作
极紫外光刻光源论文：上海光机所和上海大学微电子学院合著极紫外光刻光源光机所和上海大学微电子学院合著《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》一文，其中不仅详细介绍了ASML和日本Gigaphoton的EUV光源进度，还介绍了上海光机所2021年前后的EUV光源的液锡系统的几篇专利
解读光刻机困局之2022(三):目前国内光刻研究的整体进度评估光刻机是什么
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光刻机困局调查中涉及的时间动态分析图：光刻工艺的演变因此，我整理了大量各种变量的时间演变曲线，并且标注其中的关键节点，对于重要的关键节点，做详细的人、物、力的调查，并以此来评估、矫正对技术发展趋势的判断
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2，除了类似的综述论文所需资料外，会包含研究人员和研究团队的分析，研究人员的背景、研究团队的组成、稳定性，以及他们的技术能力，是分析、预测项目推进的重要组成信息；介绍俄罗斯的LPP EUV光源研究员康斯坦丁·N·科舍列夫3，在研究人的因素之上，进行详细的工业基础、技术背景调查，以此了解每一项组件所依赖的外部条件，如软硬件、材料、资源、资金等，以此判断实现每一个环节大概所需要的时间，并整体综合判断项目进度
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