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更令人注意的是一项2018年1月至2021年9月的新项目:六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09王丽萍教授的极紫外光刻研究活动值得注意的是,与上述六镜极紫外光刻投影物镜开发项目同时同期开展的,还有一个国家项目“极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关”

德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前,美国开展了为期3年的工程验证机(ETS)研究,其采用的是四镜头曝光光学

所以更宽范围来说,过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态

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因此,在大约十年时间里,长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具的设计和制造能力,使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发

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两镜头光学到六镜头光学系统的差距如前文所述,德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后,3年内推出了六镜头的ADT验证机

所以,蔡司的MET光学并非欧洲的光学制造能力的上限,而长春光机所的MET曝光工具则是在采购了欧洲先进制造工具、设计工具基础之上,几乎代表了中国当时在EUV研发上的能力上限

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而如果我们把2017年当作中国的两镜头EUV光学系统成型的时间节点,我们有条件在3年内完成ADT验证机吗?回答这个问题,我们首先要理清蔡司的MET工具和长春光机所的MET工具的差异:2003年蔡司的两镜头MET曝光工具的核心功能,是进行EUV的曝光能力极限的原理性论证工作;而2017年中国的两镜头MET曝光系统核心是搭建中国的EUV研究基本条件、团队

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在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里,王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢?在面对西方技术封锁下,我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗?下次见!两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿:https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿:http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文:https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页:https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html

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王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾,王丽萍写道:“根据我国现阶段的技术基础和研究目标,两镜微缩投影系统的研究仍为重点”

两镜头MET曝光工具的性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同,它不具有生产能力

京东就是这么牛,服务很好,快递物流超快,第二天就收到件了,佩服啊。读碟快 刻录静音 音质很好 先锋就是先锋

当然,由于这两个项目是2018年1月便启动的项目,先于美国的光刻机制裁,因此其立项根据、任务指标等可能与当前的光刻机困局的境况并不匹配

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因此,在大约十年时间里,长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具的设计和制造能力,使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发

而这也是篇首我们看到的王丽萍教授参与的六镜头投影系统设计和验证工作的基本背景

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极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前,有必要回顾EUV光刻机发展历史,简而言之,在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里,有4个里程碑的阶段,包括:1,2003年之前的两镜头曝光装置(MET);2,2006年的六镜头EUV演示工具(ADT);3,2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机;4,明年即将推出的第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机

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因此,从工业化角度而言,我国开发EUV,即便是可以省略了四镜头的ETS工程验证机的环节,六镜头的ADT演示工具应该是目前合适的攻关环节

王丽萍教授的两镜头EUV投影系统设计王丽萍教授的履历表写道:2004年毕业于长春理工大学后,于2004-2009年在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所攻读博士

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