中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源光刻机是荷兰发明的吗
王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾，王丽萍写道：“根据我国现阶段的技术基础和研究目标，两镜微缩投影系统的研究仍为重点”
两镜头MET曝光工具的性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同，它不具有生产能力
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当然，由于这两个项目是2018年1月便启动的项目，先于美国的光刻机制裁，因此其立项根据、任务指标等可能与当前的光刻机困局的境况并不匹配
我相信它们依然是基于长期的攻关目标而设定的
由于该项目是2021年9月结束，我还没有查阅到相关的结题资料，所以我们可以从六镜极紫外光刻投影物镜所必需的软硬件条件开始，以及近期公开发表的论文资料，去分析其所能达到的水平
因此，从工业化角度而言，我国开发EUV，即便是可以省略了四镜头的ETS工程验证机的环节，六镜头的ADT演示工具应该是目前合适的攻关环节
王丽萍教授的两镜头EUV投影系统设计王丽萍教授的履历表写道：2004年毕业于长春理工大学后，于2004-2009年在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所攻读博士
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编者按：2021年12月30日，长春光机所依托02专项极紫外光刻研究团队，在深圳国资委资助下，合作成立了一家新企业：长光集智光学科技有限公司
长春光机所研发团队持股20%，而第二大自然人股东--王丽萍教授，便是今天故事的主角
很好用，而且用了一段时间了还没坏，我们经常用，也经常会用坏，所以买这个很划算 稳定性能：好
因此，在大约十年时间里，长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具的设计和制造能力，使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发
而这也是篇首我们看到的王丽萍教授参与的六镜头投影系统设计和验证工作的基本背景
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本来准备装电脑上的，结果发现机箱没有光驱位，索性加一个光驱盒，拿来当外置光驱，没想到速度还挺快的，声音很小，比较安静