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两镜头光学到六镜头光学系统的差距如前文所述，德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后，3年内推出了六镜头的ADT验证机
所以，蔡司的MET光学并非欧洲的光学制造能力的上限，而长春光机所的MET曝光工具则是在采购了欧洲先进制造工具、设计工具基础之上，几乎代表了中国当时在EUV研发上的能力上限
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源中国为什么不自己研发光刻机
2017年长春光机所的2镜头MET曝光工具验收，获得32纳米线宽曝光图形十年后，2017年02专项验收时，我们可以看到，其验收的两镜头MET曝光工具，获得32纳米线宽曝光图形，与2007年王丽萍教授的论文设计几乎是一致的
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而如果我们把2017年当作中国的两镜头EUV光学系统成型的时间节点，我们有条件在3年内完成ADT验证机吗？回答这个问题，我们首先要理清蔡司的MET工具和长春光机所的MET工具的差异：2003年蔡司的两镜头MET曝光工具的核心功能，是进行EUV的曝光能力极限的原理性论证工作；而2017年中国的两镜头MET曝光系统核心是搭建中国的EUV研究基本条件、团队
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2005年美国加州劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具因此，从这一非常具体的实例来作为比较，并且只从曝光工具的单一指标（我们忽略系统性工作能力、技术储备、制造工具储备等）而言，我们在2017年的02专项极紫外曝光光学的验收成果，接近2005年劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具的曝光线宽
美国加州劳伦斯伯克利实验室CXRO主任值得一提的是，2005年发表这篇论文的帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当年是纽约州立大学的副教授，他现在是加州劳伦斯伯克利实验室CXRO的主管，CXRO实验室正在为下一代NA0.55 光刻机开发关键配套材料
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