王丽萍研究生在读时,于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文,涉及两镜头微缩投影系统:《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》
王丽萍2007年发表论文在这篇论文中,给出了一套MET工具的光学设计图,其数值孔径NA0.3,分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm
极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前,有必要回顾EUV光刻机发展历史,简而言之,在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里,有4个里程碑的阶段,包括:1,2003年之前的两镜头曝光装置(MET);2,2006年的六镜头EUV演示工具(ADT);3,2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机;4,明年即将推出的第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机