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国产镜头光刻机小

轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期

这是一个负责任的思路，一个国家就应该从自身利益出发考虑问题，做符合自身利益的决定，而不是照搬其他国家的政策

施赖纳马赫尔为什么说把深紫外光刻机送给美国对荷兰更糟糕？就是因为一旦跟美国搅和到了一起，荷兰就要处处受限，久而久之，就会对美国产生依赖，同时还不得不使用一些被强的多余技术

物有所值，买回来看包装就很喜欢，推荐此产品，欢迎大家来买他家的产品。 读盘速度：很快， 读盘声音：声音不是很大 稳定性能：刻录光盘很舒适 外形外观：很漂亮，用着合适。 轻薄程度：很薄

读盘速度：读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定！ 读盘声音：静音效果好，不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能：支持UHD 的4K蓝光盘读写！这点非常棒，是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好，连续读写不降速。 轻薄程度：正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观：外观漂亮，新款带类钢琴烤漆面的一体式面板，比老款好看很多。 产品包装：包装精致，不知道是不是因为是国内总代的关系，所有一次性封贴都是索厉的。

自打U盘流行，硬盘容量大了之后，光驱就离我们越来越远了，刻录机也不例外，现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐，而CD正是最好的载体，所以空着多年的光驱位又要启用了，当日下单次日即收到，趁孩子睡午觉立即刻了两张盘，刻录能支持最大速度，但我用的是最低速度来，一张CD刻好也只需十来分钟，刻好立即回放读碟，效果棒棒的，这光驱不管读还是读都叫我满意！

终于拥有自己的刻录光驱了，比我上一个只能读取的上了一个台阶，很满意！现在很多机箱都没有光驱位了，为了方便起见，配了先锋DVD刻录机，质量很好。

先锋的产品，质量很稳定，老的用了很多年光头已经不行了，换个新的继续用。多快好省信赖京东，先锋的刻录机质量杠杠的，好评

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

给单位同事购买的商品，没有反馈说不好用，肯定是很好用了！非常好，正品，刻录机只用先锋，完美的使用感受

而如果我们把2017年当作中国的两镜头EUV光学系统成型的时间节点，我们有条件在3年内完成ADT验证机吗？回答这个问题，我们首先要理清蔡司的MET工具和长春光机所的MET工具的差异：2003年蔡司的两镜头MET曝光工具的核心功能，是进行EUV的曝光能力极限的原理性论证工作；而2017年中国的两镜头MET曝光系统核心是搭建中国的EUV研究基本条件、团队

做工精致，读片性能很好，轻薄小巧携带方便，五星！还可以，价格很便宜了，电脑还是要装一个刻录机的，万一用了还是很方便的

非常满意！速度快！服务好！京东自营服务好！买的安心！用的放心！十分满意！不错不错！七天无理由退货！很好很好！价格实惠！质量好！

2017年长春光机所的2镜头MET曝光工具验收，获得32纳米线宽曝光图形十年后，2017年02专项验收时，我们可以看到，其验收的两镜头MET曝光工具，获得32纳米线宽曝光图形，与2007年王丽萍教授的论文设计几乎是一致的

作为光刻机金字塔最顶尖的企业，ASML的成立本身就是早期西方资本从东芝、索尼口中夺食并垄断全球光刻机、芯片市场的产物

尤其当老美扯下“科技无国界”的遮羞布，ASML所扮演“棋子”的角色也愈发凸显

2018年中芯国际向ASML订购了一台EUV光刻机，因为受到禁令的限制，这台本应2019年就该到货的EUV光刻机至今没有交付，即便是二手渠道也被卡得死死的

2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台

2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果，展示了30nm和25nm的等线宽线距（L/S）的曝光能力，可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰

而曝光28.8纳米的独立线条，仍可以获得非常高精度的曝光图案

在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里，王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢？在面对西方技术封锁下，我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗？下次见！两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿：https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿：http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文：https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页：https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html

王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》

王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm

因此，从工业化角度而言，我国开发EUV，即便是可以省略了四镜头的ETS工程验证机的环节，六镜头的ADT演示工具应该是目前合适的攻关环节