王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾,王丽萍写道:“根据我国现阶段的技术基础和研究目标,两镜微缩投影系统的研究仍为重点”
两镜头MET曝光工具的性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同,它不具有生产能力
曝光系统被置于真空罩中
在这个系统里,最核心的投影光学部分(MET projection optic)主要涉及超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等关键技术,而这些也是长春光机所02专项的核心工作
王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾,王丽萍写道:“根据我国现阶段的技术基础和研究目标,两镜微缩投影系统的研究仍为重点”
两镜头MET曝光工具的性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同,它不具有生产能力
曝光系统被置于真空罩中
在这个系统里,最核心的投影光学部分(MET projection optic)主要涉及超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等关键技术,而这些也是长春光机所02专项的核心工作
一个 6 英寸的 EUV 光掩模结语20年前,ASML的一台ADT工具,便坐落在纽约州立大学理工学院,也就是帕特里克·诺洛(Patrick Naulleau)当时工作的单位
这套价值6500万美元的设备信息,至今仍然挂在纽约州立大学理工学院(SUNY POLY)的主页,这里曾经是世界EUV光刻技术的研发先驱
2005年论文:美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里,我们可以清晰的看到MET工具CAD模型,它主要包括两个部分:1,从上部的同步辐射光源系统(From synchorotron)经过一个扫描单元传递至曝光装置;它相当于EUV光刻机的EUV光源系统;2,MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分:光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台
光驱很漂亮,启动的声音很小,弹出非常平稳。希望能够用的时间久一些。读盘速度:很快读盘声音:声音小,几乎听不到产品包装:精美
光驱,哈哈已经是牙齿掉光的产品了,估计再过几年就消失了,小朋友学校里面有光盘,直接买了一个,装上,方便使用,以前还记得是很高大上的额东西,现在都已经快被淘汰的,感叹啊,先锋这个牌子估计以后也会慢慢的越来越少看得到!好评!
做工很好,十年前买的先锋刻录机有点光头老化,再买一个用,完美,非常满意!京东物流就不用说了,快!光驱手感好,整体轻薄,使用时声音小,速度快,非常好用的一款!
在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里,王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢?在面对西方技术封锁下,我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗?下次见!两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿:https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿:http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文:https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页:https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html
2005年论文:美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里,我们可以清晰的看到MET工具CAD模型,它主要包括两个部分:1,从上部的同步辐射光源系统(From synchorotron)经过一个扫描单元传递至曝光装置;它相当于EUV光刻机的EUV光源系统;2,MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分:光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台
读盘速度:很快 读盘声音:不大 稳定性能:很稳定 轻薄程度:合适 外形外观:完好 产品包装:结实
先锋刻录机,15年了 始终在用这个牌子 真心好用。还不错!14年的老电脑!就机箱和光驱没有换过啦!这次还换先锋的光驱!物美价廉
正是由于这样的原因,才让中国的芯片制造企业起色一直不太好,而美国方面的打压,也让我们的芯片制造行业进入了一定的低谷期,但即使这样中国也没有放弃在这方面的技术突破,甚至在美国打压的那段时间,我们发动的科研人员,国家企业,以及很多民营企业做共同的努力,所以最后的成效,虽然比较好,但是想要赶上发达国家还是不太可能
读盘速度:读盘速度很快,加持USB3.0。 读盘声音:运行比较安静,比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能:稳定性强,底部防滑。 轻薄程度:轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳,强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了,方便极了。
先锋外置刻录机很快到货,还没试用。以前买过好几台先锋光驱和刻录机,挺好用。不是第一次买了,这个品牌真是刻录机中的第一品牌,上一个用了5年,终于到年头可以换了,好用的很!好评!
挺好用的,多了一根电源线,对功率小的笔记本很有好处,刻录速度不错,不易刻录失败。好用。白色颜值很高
正如人民日报说的那样:关键核心技术是要不来、买不来、讨不来,若不自立自强,必有“卡脖子”之虞
国内企业应该放弃幻想,聚四海之气,借八方之力,自立自强不是关起门来搞科研
总而言之,与其对老美“松口”抱有幻想,还不如脚踏实地、身体力行地去完成全产业链的国产化替代,只有自己手中“有粮”,才能遇事不慌
至于老美是如何说服荷兰扩大禁售范围的,我们暂且不知
相信品牌!机子看起来很简约,耐看,用起来也非常好用!店家快递很快,包装也很好,光驱还没用呢,看着无划痕,新品应该是!等用上再看看
王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾,王丽萍写道:“根据我国现阶段的技术基础和研究目标,两镜微缩投影系统的研究仍为重点”
两镜头MET曝光工具的性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同,它不具有生产能力
ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机,具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师,在她的主页上,我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究
德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前,美国开展了为期3年的工程验证机(ETS)研究,其采用的是四镜头曝光光学
所以更宽范围来说,过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态
而高NA0.55EUV光学系统是从十年前便开始布局工业化,因此,我们从蔡司的产品迭代来看,我们与蔡司的技术代差实际上是放大了的
因此,在大约十年时间里,长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具的设计和制造能力,使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发
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