滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源光刻机是荷兰发明的吗

王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾，王丽萍写道：“根据我国现阶段的技术基础和研究目标，两镜微缩投影系统的研究仍为重点”

两镜头MET曝光工具的性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同，它不具有生产能力

京东就是这么牛，服务很好，快递物流超快，第二天就收到件了，佩服啊。读碟快 刻录静音 音质很好 先锋就是先锋

当然，由于这两个项目是2018年1月便启动的项目，先于美国的光刻机制裁，因此其立项根据、任务指标等可能与当前的光刻机困局的境况并不匹配

非常好，一开始没用起，找售后了解后用起了，效果非常棒，售后很热情，必须五星评起

先锋的刻录机用过两台了，第一款是DVD刻录机用了好多年，后来升级成蓝光刻录机已经用了6年，刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定，现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

两镜头光学到六镜头光学系统的差距如前文所述，德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后，3年内推出了六镜头的ADT验证机

所以，蔡司的MET光学并非欧洲的光学制造能力的上限，而长春光机所的MET曝光工具则是在采购了欧洲先进制造工具、设计工具基础之上，几乎代表了中国当时在EUV研发上的能力上限

先锋老牌子，读碟稳定，写碟快，噪音也很低，满意满意。很好用，噪音小，速度快，送货很快，最重要的是便宜。

因此，在大约十年时间里，长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具的设计和制造能力，使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发

而这也是篇首我们看到的王丽萍教授参与的六镜头投影系统设计和验证工作的基本背景

刻录速度不错！不挑盘！很好！京东物流也超快！质量好，很好用，价廉物美，物流半天就送到家了。

极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前，有必要回顾EUV光刻机发展历史，简而言之，在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里，有4个里程碑的阶段，包括：1，2003年之前的两镜头曝光装置（MET）；2，2006年的六镜头EUV演示工具（ADT）；3，2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机；4，明年即将推出的第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机

因此，从工业化角度而言，我国开发EUV，即便是可以省略了四镜头的ETS工程验证机的环节，六镜头的ADT演示工具应该是目前合适的攻关环节

王丽萍教授的两镜头EUV投影系统设计王丽萍教授的履历表写道：2004年毕业于长春理工大学后，于2004-2009年在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所攻读博士

先锋刻录机总体感觉不错，刻录机的读盘速度很快，刻录的速度也很快，运行的声音都很小，刻录机的运行性能很是稳定，是给公司购买的，使用部门反馈效果很好，而且价格也是实惠，京东的快递速度很快，京东的快递小哥服务态度很好

比起DUV光刻机，它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸

而EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个13.5nm的极紫外线是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的

第三就是工作台的精度

光刻机的工作台控制了芯片在制造生产中的纹路刻蚀，工作台的移动精度越高，所加工的芯片精度就越高

ASML公司的EUV光刻机工作台采用的是一种高精度的激光干涉仪，以此进行微动台的位移测量，构建出一个闭环的控制系统，进而实现纳米级的超精密同步运动

品质不错，非常满意，很好用！很好用，刻录速度快，链接很稳定，非常好，很喜欢，够小，够轻，配的USB3.0的线，还带手动解锁

到货后马上拆机更换，读取速度也很快，刻录效果以后再试，一直用这个牌子，效果不错，东西还是不错，好用，就是包装盒是脏的，不舒服

2017年长春光机所的2镜头MET曝光工具验收，获得32纳米线宽曝光图形十年后，2017年02专项验收时，我们可以看到，其验收的两镜头MET曝光工具，获得32纳米线宽曝光图形，与2007年王丽萍教授的论文设计几乎是一致的

在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里，王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢？在面对西方技术封锁下，我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗？下次见！两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿：https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿：http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文：https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页：https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html

这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍

此前就有调侃说，一台EUV光刻系统相当于一架F22/35战机

此前Intel表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了，三星和SK海力士则尚未表态

这种外置光驱非常好用，买来刻录cd用的，用完可以带走。非常好的一款刻录机，大品牌，值得信赖，而且这个也比较专业吧！

德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前，美国开展了为期3年的工程验证机（ETS）研究，其采用的是四镜头曝光光学

所以更宽范围来说，过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态

而高NA0.55EUV光学系统是从十年前便开始布局工业化，因此，我们从蔡司的产品迭代来看，我们与蔡司的技术代差实际上是放大了的

在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里，王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢？在面对西方技术封锁下，我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗？下次见！两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿：https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿：http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文：https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页：https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html

曝光系统被置于真空罩中

在这个系统里，最核心的投影光学部分（MET projection optic）主要涉及超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等关键技术，而这些也是长春光机所02专项的核心工作

读盘速度：速度快。 读盘声音：声音小。刻录声音也不大。 稳定性能：性能稳定。 产品包装：包装很好。