德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前，美国开展了为期3年的工程验证机（ETS）研究，其采用的是四镜头曝光光学
所以更宽范围来说，过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态
而高NA0.55EUV光学系统是从十年前便开始布局工业化，因此，我们从蔡司的产品迭代来看，我们与蔡司的技术代差实际上是放大了的
在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里，王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢？在面对西方技术封锁下，我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗？下次见！两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿：https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿：http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文：https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页：https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html
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中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源中国14nm工艺制程的光刻机
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因此，从工业化角度而言，我国开发EUV，即便是可以省略了四镜头的ETS工程验证机的环节，六镜头的ADT演示工具应该是目前合适的攻关环节
王丽萍教授的两镜头EUV投影系统设计王丽萍教授的履历表写道：2004年毕业于长春理工大学后，于2004-2009年在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所攻读博士
2017年长春光机所的2镜头MET曝光工具验收，获得32纳米线宽曝光图形十年后，2017年02专项验收时，我们可以看到，其验收的两镜头MET曝光工具，获得32纳米线宽曝光图形，与2007年王丽萍教授的论文设计几乎是一致的
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ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机，具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师，在她的主页上，我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究