滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年

在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机

半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段

前一个先锋刻录机用了12年装系统读盘报错了。又买个先锋。非常好用。先锋蓝光刻录机己收到，快递物流快，送货上门，很方便

刻录机光驱质量不错?，刻录效果非常不错?价格合理，京东商城网购放心。很好用，携带方便，而且刻录速度非常快

比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展

第二次买了，上次5个，这次又为单位上买了5个，上次买的评价比较好，读盘能力强，刻盘很稳定，国产品牌中很不错的产品，现在用光驱的时候越来越少，外置光驱价格也降了不少，有时要用的时候又找不到，常备几个以备不时之需。

使用方便，安装简单，调配容易，效果不错，非常好用，商品很好很不错，性价比很高，物美价廉，非常好的一次购物体验

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年全球每年能生产几台光刻机

先锋大品牌老品牌值得信赖，买来用于替换原来的普通DVD光驱，复盘速度很灵敏，刻录一张8GB的光盘最多八分钟，而且读写声音很小很稳定，非常满意.

非常好，一开始没用起，找售后了解后用起了，效果非常棒，售后很热情，必须五星评起

轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期

已经收到货了，开箱后使用了几天才来评价，质量不错，读碟快速度，刻录光盘刻录一部超清电影，播放出来，何蓝光碟差不了多少，反复刷两次光盘都一样没变化，打开之后第一感觉就是非常喜欢外观时尚大方，价钱也实惠，性价比高，装上之后车试一下，读碟很好，刻录光盘也很好，很流畅，非常愉快的一次购物，京东真的很不错，下次还会推荐朋友们过来购买

中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式

读盘速度：刚开使用，读盘写盘都还是很不错的，希望一直质量不错，耐用一些就很棒了

读盘速度：没有具体的数据，反正挺快的。 读盘声音：很安静，试刻录了一个音乐CD盘，写入很快，放到音响上，播放没有问题。 稳定性能：用了很多个先锋了，质量信得过。旧的因为接口不同，所以买了个新的。

稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻

回来就试了一下，挺好，声音超级小，耳朵贴上去才能听到声音，好评！东西不错物美价廉关键是在也不用担心坏了来回@京东上门换新这点我非常喜欢

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年光刻机三大性能

收到后只用来放DVD，很好用。运行比较安静。希望耐用。用过才知道，和某品牌同价位的确实不一样，各方面都超出预期，还是非常过硬的东西，必须好评！

光驱配光盘，一起下单，双十一真是优惠到爆炸，比平时便宜太多。这款光驱稳定性很好，支持老式电脑，读盘速度快，，声音小，，非常满意！

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上午下单下午送到神速啊，质量很不错，手感好，非常非常轻便，包装结实完好无损，使用方便速度我是外行觉得挺快的，只用来读碟，其他功能都不会用，满意

以前基本没有认真评价过不知道浪费了多少积 分，这个福利真好真好，妥妥每次都写100多字，这 是第N次在网上买东西，棒棒棒！很厉害，好便 宜，而且质量很不错，物美价廉买得放心，用得开 心，现在购物已经是每天的必做的事了，买买买根 本停不下来，东西品种多，分类清晰，超级划算而 且方便，主要是还实惠，包装设计很好，并且没有 损坏，希望卖家可以一直保持】，这是一个好评模 版，因为如果每次要长篇写好评也是会耽误好多时 间和精力的，希望能帮到要写详细评论的亲们。

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年光刻机中国芯

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2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点