很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年
在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机
半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段
前一个先锋刻录机用了12年装系统读盘报错了。又买个先锋。非常好用。先锋蓝光刻录机己收到，快递物流快，送货上门，很方便
这款光源对应上图的位置是1994年
当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右
之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
款式很时尚，刻录速度非常快，效果很好，以后还会再来购买。宝贝与描述基本一致，发货很快，值得一买 刻录速度效果相当的好
发货很快，配送师傅态度很好，先打了电话，还专门送上楼了呢，和黑色的一起买的，感觉先锋的刻录机很好用
先锋的产品，质量很稳定，老的用了很多年光头已经不行了，换个新的继续用。多快好省信赖京东，先锋的刻录机质量杠杠的，好评
编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
一直信赖先锋品牌，做影视传媒的必须用到光驱，非常好用，即插即用，读盘飞快，声音也很轻，速度快，使用稳定，刻dvd和bd都非常好用，没有飞盘，脱离。推荐朋友也用这个品牌，性价比超高，而且几乎也没有声音，稳定用几年不出故障，京东物流速度也非常快，十几年前就用先锋光驱，这也是一中情怀，下次光驱依然还是先锋，就这价钱和这服务，完美！
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年中国造不也光刻机
外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。
同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势