它的验收成功，也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备，具有重大意义
因为，超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线
ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机
EUV指的是极紫外光，它可以制造7nm以下的芯片，使用的是13.5nm波长的光源
我在之前的视频里讲过，华为的光源专利，其目的就是先对强光源进行去相干处理，以达到匀光效果，这样才能保证光刻工艺的正常进行
ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的，波长越短越好，刻机分辨率就越高，制程工艺越先进
2012年，中国科学院光电技术研究所承担了超分辨光刻装备的研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米
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小孩子幼儿园有很多光盘发下来，笔记本又没配备光驱。网上一搜，外置光驱就选中了这款。从价格上看并不便宜。主要谁买大牌，图省心，毕竟还是需要用长时间的。完美解决问题，连上笔记本就能用。希望能一直用下去。
总之，这款表面等离子体超分辨光刻装备的成功研发，打破了传统光刻机的路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，绕开了国外相关领域的技术壁垒，具有完全自主知识产权，其关键技术指标达到超分辨成像光刻领域的国际领先水平
收到就试了一下，稳得一批啊，声音也很小。读盘速度：挺快读盘声音：挺小稳定性能：很稳轻薄程度：刚好外形外观：美丽产品包装：简单安全
先锋的刻录机是老牌子，到了之后用了一下，非常好。顺便吐槽一下，现在的笔记本好多都不带光驱了，配一个外置光驱很有必要。
我们国家在4年前，曾经研制出一种特别的光刻机，但是很少有人知道，它的名字叫超分辨率光刻机，这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm以下的工艺制程
在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工
已经实际应用
稳定性能：非常稳定 读盘速度：速度快 读盘声音：无噪音 外形外观：精致美观 轻薄程度：轻薄
之前自己有一个黑色的，用着不错，就照样子又买了一个，黑白双煞。物流很快，基本上下单后第2天到货，产品用起来也很方便，不需要安装刻录软件。
光刻机衍射光学doe
读盘速度：读速很快 读盘声音：一般情况下，声音较轻 稳定性能：稳定性高 轻薄程度：大小合适 外形外观：外观美观 产品包装：包装精美，质量可靠