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极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年光刻机知识产权

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比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统;这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年光刻机知识产权

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