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它的验收成功，也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备，具有重大意义

因为，超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线

ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机

EUV指的是极紫外光，它可以制造7nm以下的芯片，使用的是13.5nm波长的光源

我在之前的视频里讲过，华为的光源专利，其目的就是先对强光源进行去相干处理，以达到匀光效果，这样才能保证光刻工艺的正常进行

ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的，波长越短越好，刻机分辨率就越高，制程工艺越先进

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再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机，台积电当下的先进工艺制程产能过剩，而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺，为了增强竞争优势，台积电建立“3D Fabric”联盟，以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本

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这话显然是说给国际社会听的，因为芯片供应链若不稳定，世界各国都会遭殃，没有谁能独善其身，因此，阿斯麦无疑是在利用舆论的力量向美国反向施压

另外，本月初在上海举办的第五届进博会上，除了阿斯麦外，一众美国半导体厂商也纷纷参展，都想在中国市场分一杯羹

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ASML对于荷兰，其实类似于三星之于韩国

ASML的光刻机销售将持续遭受打击，对荷兰的产业支柱将造成一定的影响，继而可能对荷兰的GDP与经济造成波及，形成连锁反应

ASML其实因此陷入了台积电的困局，它被迫封锁了一个最大的客户与最大的潜力市场，未来的利润可高度依赖于美国少数的大厂

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据悉，目前包括韩国三星、SK海力士以美国的英特尔等半导体产业巨头，均在中国有工厂

如果禁止向中国出口DUV深紫外光刻机，中国大陆晶圆代工厂以及海外国家在华企业的产能，必然会受到限制，届时全球半导体供应链肯定紊乱

过去两年时间，受新冠疫情影响，全球半导体供应链一直不太稳定，也因此陷入了半导体供应荒，芯片价格暴涨给许多行业的生产经营带来了不同程度的影响

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11月15日消息，综合韩联社、koreatimes报道显示，全球光刻机龙头大厂ASML首席执行官温宁克（Peter Wennink）于今日在韩国首尔召开的一场新闻发布会上表示，ASML新一代的High-NA EUV光刻机将于2024年开始发货，每台设备的价格将在3亿至3.5亿欧元之间

台积电、Intel和三星是ASML的EUV光刻机的三大客户，而台积电更是最大客户，台积电的先进工艺过剩并且关闭部分EUV光刻机就意味着它不会再采购EUV光刻机了，三星和Intel其实也是差不多的，如此情况下ASML的EUV光刻机还能卖给谁？在光刻机需求下降的时候，近日传出消息指ASML计划大幅增加DUV光刻机和EUV光刻机的产能，如此就颇为耐人寻味了，它逆势扩张光刻机产能当然是要卖给客户，剩下的唯一还需要大量采购光刻机的客户自然就是中国了

ASML面临的另一个威胁则是日本光刻机的复兴，如今ASML虽然已是全球最大的光刻机企业，不过它占有的市场份额为六成左右，日本的佳能、尼康等还占有近四成的市场份额，与ASML向抗衡

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一、ASML对前景的担忧ASML拥有最先进的光刻机，这是它的核心竞争力，但是全球芯片行业已陷入衰退阶段，诸多芯片至企业都暂停了产能扩张计划，甚至连最大的芯片制造企业台积电都关闭了部分EUV光刻机，如此情况下ASML的光刻机就从此前的不愁卖到如今的难卖

此前美国提出的每项举措，ASML都迅速紧紧跟随，美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机，ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付，今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机，ASML照单全收

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