NSR-S635E光刻机 / 尼康虽然这样的机器在分辨率上与ASML的EUV光刻机还存在着不小的差距，但已经足以覆盖不少成熟工艺的晶圆制造，以及部分次先进节点的辅助制造了
而在去年的SPIE先进光刻机技术会议上，尼康展示了名为双光束EUV光刻技术
除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?购买的7nm的光刻机也在大陆吗
刻录机非常好，读写静音极佳，刻盘质量极佳，是我用过的最好刻录机，质量也非常过硬，下次一定在来买。
所以哪怕是半导体市场有些许低迷，尼康也并没有任何订单因此被取消
值得一提的是，虽然尼康本身目前并没有生产EUV光刻机，却有为EUV系统生产光学组件的
不过与EUV光刻机本身一样，EUV的光学组件拥有极长的交期
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尼康尼康的光刻机产品阵容比较全面，包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进式光刻机和FPD面板光刻机，基本涵盖了除EUV以外的主流光刻机
其中最新的NSR-S635E为ArF浸没式扫描光刻机，可以做到小于等于38nm的分辨率，1.35的数值孔径和大于275晶圆/小时的吞吐量
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FPA-6300ES6a光刻机 / 佳能佳能与尼康一样，同样拥有影像和光刻机两大业务，但在光刻机上，佳能的主要产品是i线和KrF光刻机，其中主打高分辨率高产量的KrF扫描光刻机FPA-6300ES6a可以做到小于等于90nm的分辨率
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虽然仍在概念阶段，但从论文上看基于该技术打造的光刻系统可以做到10nm的分辨率，0.4的数值孔径和200晶圆/小时以上的吞吐量，这样的参数甚至可以与ASML正在制造的高NA EUV光刻机一较高下了
不过要想造出这样的机器光有概念可不够，与之相关的元件与设备生态都得建立起来才行
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