另一个DUV光刻机，可以制造7nm以上的芯片，其中的DUV是深紫外光的意思，使用193nm波长的光源
所以很明显，我们的超分辨率光刻机的光源波长，要比他们大很多，这是因为技术原理上的差异导致的
超分辨率光刻机的工作原理是这样的，它采用表面等离子体超分辨光刻（surface plasma），也叫表面等离子超衍射光刻，是最近十几年兴起的一种新技术
读盘速度：快，对办公用来说足够了 外形外观：颜值派很喜欢，有质感，简洁大方 轻薄程度：中等吧 稳定性能：陆陆续续买过一些先锋的产品，整体而言很耐用，使用无特殊状况。 产品包装：无破损，保护得当。物流也很快。 这不是一个好评模板，但也算是一个好评模板，买东西评价也是一个很有必要的事情，分享使用的的好与不好，为他人提供建议，可以做参考，自己每次买东西前也会浏览别人的评价，看完也会觉得更加踏实，卖家秀令人迷惑，买家秀才更为真实，也可以让我们冲动的时候冷静一下头脑，更清醒的考虑到底适不适合自己，还需要不需要买。
光刻机已经到中国
我国造出新技术路线光刻机
我在之前的视频里讲过，华为的光源专利，其目的就是先对强光源进行去相干处理，以达到匀光效果，这样才能保证光刻工艺的正常进行
ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的，波长越短越好，刻机分辨率就越高，制程工艺越先进
它的验收成功，也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备，具有重大意义
因为，超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线
ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机
EUV指的是极紫外光，它可以制造7nm以下的芯片，使用的是13.5nm波长的光源
总之，这款表面等离子体超分辨光刻装备的成功研发，打破了传统光刻机的路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，绕开了国外相关领域的技术壁垒，具有完全自主知识产权，其关键技术指标达到超分辨成像光刻领域的国际领先水平
读盘速度：8倍速，速度一点也不卡顿。先锋在光存储领域有着多年研发经验,是做刻录机的大品牌。 读盘声音：声音不大，外接放置也很稳。 轻薄程度：轻薄，手感很好。 外形外观：黑色磨砂质感，看起来稳重显高级。 产品包装：盒子里有防震保护，盒子外面套塑料袋，干净。 快递速度特别快，从下单到拿到手，只用了不到5个小时。
例如，该光刻机已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平
制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学太赫兹科学技术研究中心、四川大学华西医院、中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室等多家科研院所和高校的重大研究任务中取得应用
大品牌的外置光驱，一直都用这个牌子。从前的内置光驱也是一样。主要是性能稳定，耐用。刻录光盘很少报废，速度很快。现在新电脑都很少配置光驱，买他就很方便。
读盘速度：读盘速度很快的，pineer先锋大品牌，品质有保障。 产品包装：包装结实，简单。 读盘声音：读盘声音不大，可以接受。 稳定性能：稳定性好。 轻薄程度：很轻薄，方便携带外出？。 外形外观：外形简约，灰黑色的，显得特别上档次。 京东自营的，物流给力有保障，好评好评。