因为实践表示,3次曝光会导致良率大幅度下降,4、5次良率可能会低到没法想象,晶圆厂们的成本高到没法承受,不如买一台更高级光刻机,成本还低一些
所以,目前国内在努力的研发28nm的光刻机,这样经过两次曝光后,可以搞定14nm,至于7nm工艺,那最好还是期待EUV光刻机,用28nm的来曝光三次,良率没法看
“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机,因为它必不可少,同时光刻机的好坏,精度,决定了芯片的精度、良率等等
不过大家也清楚,光刻机目前全球只有4家厂商能够生产,分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子,ASML是荷兰企业,尼康、佳能是日本企业,而上海微电子是中国企业