面对这种局面,想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了,不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多,但是取得的效果并不是很明显
目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机,而且目前还没有正式量产,这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的,跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大
不过即便售价这么高昂,也并不是有钱就能够买到,按照ASML一贯的作风,一旦这些顶级光刻机量产之后,他肯定会优先供应给他的一些股东们,包括英特尔、台积电以及及三星等少数厂家,其他厂家很难订购到这些最顶尖的光刻机,如此一来芯片行业还有可能进一步拉大差距