ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机,具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师,在她的主页上,我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究
很好用,而且用了一段时间了还没坏,我们经常用,也经常会用坏,所以买这个很划算 稳定性能:好
德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前,美国开展了为期3年的工程验证机(ETS)研究,其采用的是四镜头曝光光学
所以更宽范围来说,过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态