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ASML 公告还透露，公司的 EUV 高 NA 业务中，已收到了来自供应商的第一台高 NA 机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台

这些模块将用于初始测试和集成，这是 EXE:5000 程序的重要一步

此前据 BusinessKorea 报道，三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径（High-NA）EUV 光刻设备达成了协议

ASML 下一代 EUV 光刻机启动:单价 26 亿元

先锋老牌子，读碟稳定，写碟快，噪音也很低，满意满意。很好用，噪音小，速度快，送货很快，最重要的是便宜。

第二次购买了，这次选择黑色区分一下，刻录出来的光盘很好没有问题。比传统光驱短，占用空间少，不错！非常喜欢

读盘速度：速度还是相当快的，大概2秒左右。 读盘声音：声音很小，主要是用来放音乐?的。 稳定性能：性能指标还可以，支持各种格式的光盘?兼容性比较好。 轻薄程度：大小刚刚好，能放在光驱位，要螺丝固定。 外形外观：外观很别致，很简洁。 产品包装：包装盒完好，还送了数据线。

但让人没有料到的是，似乎在出货光刻机上迎来了变数

就在近日，国内的光刻机市场透露出了一个新的消息，那就是近期我们所进口的光刻机设备的价格高于市场价的3倍

很好很满意，读碟流畅，之前买的华硕挺挑碟的，正版碟都读不出，这款棒棒的，刻录倒不常用，用移动硬盘多，暂时没有测试

帮同事升级电脑，装了固态硬盘，加了光驱，重装了win10系统，电脑速度一下子提高了许多。同事很开心。

在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片，可能EUV光刻机就无法胜任了，要推出全新一代技术，至于是什么技术，目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机，可以生产0.768nm的芯片，但无法大规模量产

而俄罗斯在研究X射线光刻机，没有光掩模板，直接光刻，据称可以用于1nm芯片，但没有样品出来

之后理论上数值孔径还能够再提升，比如达到0.7等，但已经没太多必要了，非常不值得，因为成本太高了，难度太大，估计0.55NA就是顶点了

国内拥有3台光刻机的公司

读盘速度：没有具体的数据，反正挺快的。 读盘声音：很安静，试刻录了一个音乐CD盘，写入很快，放到音响上，播放没有问题。 稳定性能：用了很多个先锋了，质量信得过。旧的因为接口不同，所以买了个新的。

不愧是老牌子，质量杠杠滴，上一个也是买的先锋，用了快十年，还能继续用，这次再买个新的，速度不稳定，忽快忽慢的，但是快起来的时候真快

众所周知，中国研究光刻机几十年，研究进展缓慢，那么光刻机是什么东西，为什么这么难呢？光刻机在国际上属于尖端科技，国际上在光电领域荷兰知名企业ASML（阿斯麦）一直处于垄断地位，一台光刻机的售价高达八亿，而且还是供不应求，由于美国限制对中国出售高科技产品，中国购买一台光刻机，竟然几年时间还没交货

刚收到了就使用，非常好用，接上就能用，方便好用，质量保证。物流给力。宝贝性价比很高，质量做工很好，安装简单方便，接口兼容性比较好，推荐购买!

中微公司光刻机前景

光刻机

荷兰取消芯片光刻机订单

半导体设备主要由七大设备零部件构成：光刻设备、刻蚀设备、清洗设备、薄膜沉积设备、离子注入设备、机械抛光设备及封装、测试设备

①光刻机（国产化率低于10%） 全球：技术壁垒超高，竞争格局超好

AS­ML、尼康和佳能三家厂商垄断，其中又以AS­ML一家独大

刚收到货，装上后刻了一张，很好。原以为先锋DVD内置刻录机停产了。现在看来是谣传，从机子上看是今年5月出厂的。

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自2018年以来，在美国的压力之下，荷兰政府一直禁止阿斯麦向中国出口其最先进的极紫外线光刻机（EUV），但仍可以销售上一代的深紫外线光刻机（DUV）

资料图然而，美国希望进一步打压中国芯片行业，将DUV也纳入禁售范围

荷兰官员:正与美国就对华光刻机出口限制进行谈判光刻机生产芯片

自打U盘流行，硬盘容量大了之后，光驱就离我们越来越远了，刻录机也不例外，现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐，而CD正是最好的载体，所以空着多年的光驱位又要启用了，当日下单次日即收到，趁孩子睡午觉立即刻了两张盘，刻录能支持最大速度，但我用的是最低速度来，一张CD刻好也只需十来分钟，刻好立即回放读碟，效果棒棒的，这光驱不管读还是读都叫我满意！

使用了一下，外形挺简洁，放DVD很好用，刻录暂时没用。安装简单，读取速度快，希望可以使用期限可以久一些。京东得物流依旧是很不错

中国不但拥有丰富的自然资源，同时还有完备的基础设施，同时还是全球最大的消费电子市场，无论从哪个角度考虑都不可能将其排除在全球芯片产业链之外，否则所造成的负面效果将难以估量

大陆在第一季度成为ASML最大市场另一个方面则是从ASML自身考虑，根据ASML公布的财报显示，第一季度来自国内的销售额占ASML整体销售额的34%，也超越了韩国成为最大市场

国产90nm的光刻机

徐州光刻机项目

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平