High-NA EUV 是下一代光刻设备,与现有的 EUV 光刻设备相比,可以雕刻出更精细的电路,其被认为是一个改变游戏规则的设备,将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家
High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元(约 25.85 亿元人民币),是现有 EUV 光刻设备的两倍
ASML 公告还透露,公司的 EUV 高 NA 业务中,已收到了来自供应商的第一台高 NA 机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台
这些模块将用于初始测试和集成,这是 EXE:5000 程序的重要一步