中国在光刻机方面的技术迅速突破,在于此前具有一定的基础,事实上在1990年代的时候,我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大,只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大,以及当时发展芯片产业时机未到,国产的光刻机产业链逐渐凋零,如今经过近十年时间的努力,国内光刻机产业链再度打通也就不在话下
北京光刻机股
这些消息都无不让ASML如鲠在喉,所以美国方面一再施加压力,但是ASML却一直都认为限制DUV光刻机没有多大意义,DUV光刻机已是多年前就已成熟的技术,中国在DUV光刻机方面的进展将会更快,如今中国在EUV光刻机技术上的进展如此迅速,显示出中国不仅在DUV光刻机技术方面进展迅速,在更先进的EUV光刻机技术方面同样很快