滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

至于佳能，尼康，则主要集中在最低端的还有UV（i-line）光刻机领域，在次高端的DUV领域，都表现一般

至于国产光刻机，虽然可以用于90nm，但其实晶圆厂们用得非常少，并且主要不是用于前道，也就是晶圆制造这一块，更多是用于后道，比如封测等领域

而DUV光刻机又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；而ArF Dry用于65nm，还有KrF用于180nm等等

制造芯片的核心设备光刻机

因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！

但是应付车规级功率芯片，足够了

很多人看到这个信息的第一眼，基本都是比较高兴的心情

之前美国持续给荷兰政府施压，限制asml公司出口给我们光刻机，但是asml公司一直没有妥协

这次asml供应给了我们一台光刻机，从表面上看，是asml顶住了美国政府的施压，完成了一台设备的交付任务，虽然不是EUV光刻机，但是也可以帮助我们发展了

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。

做工很好，工作稳定，噪音小，读光盘快速静音，刻录光盘可靠性高。有说明书，附带安装螺丝。外包装是纸箱，无挤压变形。京东物流很快，快递小哥直接送到家。

在上个月，美国政府颁布了一项新的法案，该法案将对中国的芯片进口，进行更严格的限制

而且，美国不仅仅是自己限制中国，他们还要求荷兰，日本以及韩国一道遵守他们的新法案，继续对中国的半导体行业实施管制

作为全球光刻机龙头企业的阿斯麦，当然难逃美国人的视线，这些天来，美国政府不止一次要求他们在这一问题上，亮明自身的态度

可一旦事情发展到了这一步，那美国就会成为最大的赢家，对此，荷兰清楚地知道其中的利弊

现如今，中国正慢慢成长为荷兰最大的贸易伙伴，双边贸易量逐年递增，表明两国之间合作不但前景光明，而且好处也很多

收到就试了一下，稳得一批啊，声音也很小。读盘速度：挺快读盘声音：挺小稳定性能：很稳轻薄程度：刚好外形外观：美丽产品包装：简单安全

可见，光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了，所以国产光刻机真的要努力才行，不说实现5nm，先实现28nm，再搞定14nm，先实现与其它国产半导体设备一个节点才行，你觉得呢？而只要国产半导体设备有了突破，达到先进水平，禁运也就没有了任何意义，也就会全面放开了，刻蚀机就是最好的例子

事实上，刻蚀机之前也是被美国禁运的，但随着中微公司的先进刻蚀机后，禁运也就没意义了，于是放开了市场，中国厂商可以随便买

光刻机（lithography）又叫光刻系统，是制造各种芯片所必不可少的一种设备，其主要是采用类似冲印照片的方式，将掩膜版上的精细图形通过光线印制到硅片上

而我们大家都知道，如今的生活之所以这么方便，跟大家日常使用的大量的电子设备是分不开的，大家常用的手机和电脑里面都会安装有芯片，而在武备领域同样也是如此，无论是天空中的战斗机还是海里舰艇都离不开芯片

外包装很精美，比联想db75好多了。先前用db75太久了，光头有点灰尘，抓出来的音频有问题，换了之后就好多了。目前没问题，各方面都很好。eac上可以直接查到偏移值，好用！

据悉日本已成功突破5nm工艺，这是在无需采用ASML的EUV光刻机情况下达到的，此前美国也有企业研发了无需EUV光科技的工艺，似乎ASML正陷入众叛亲离的局面

由于成本过于昂贵，台积电和三星研发的3nm工艺如今都面临无客户采用的问题，甚至有消息指苹果考虑到成本问题预计明年的A17处理器仍然采用成熟的4nm工艺而不是3nm工艺

日本研发5nm取得重大进展

日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺，此前已被铠侠用于存储芯片生产，此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm，到去年底日本已将该工艺突破10nm，到如今不到1年时间又突破到5nm，可谓进展神速

中国自己制造的光刻机

质量非常好，与描述的完全一致，非常满意,真的很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，服务态度很好，运送速度很快，很满意的N次购物

挺好的，价格公道，先锋刻录机应该是刻录机里面最好的品牌了，很早之前用过一个115ch，用到老化，也只是刻录速度变慢，从来没刻飞过，后来买了别的品牌的，简直是噩梦。京东不错，不怕买到翻新货，价格还公道，不用去电脑城挨宰和被以次充好了。

就在这个消息公布后不久，asml就同意向我国出口28nm的光刻机

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

阿斯麦光刻机老总来中国

先锋光驱，很多年的老品牌，用过一个先锋外置光驱，这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机，已装上，读盘很好，刻录功能还末试。

持续扩大在韩国投资去年11月，ASML与韩国华城市签署了一份备忘录，宣布投资2400亿韩元（2.12亿美元），于2024年前在当地打造一座16,000平方公尺的维修中心和工程师培训中心，可容纳多达1500名员工

显然，这里提到的三个逻辑晶圆厂应该是英特尔、台积电和三星，两个存储晶圆厂应该是三星和SK海力士

△ASML首个High-NA EUV光刻系统虽然，三星和SK海力士尚未公开证实这一点，但消息人士表示，他们已经向ASML下了订单

在“技术复杂性（芯片制造）上升”之际，与韩国当地客户密切合作“至关重要”