光刻机制备工艺
然而在EUV光刻机面世之前,一直都是使用的DUV光刻机,使用的是短波紫外线,突破到极紫外线,一共花费了20年的时间才完成,可见对于光源的选择使用,其的难度是非常大的,没有捷径可走
2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具,然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术
而ASML采用的则是一种激光干涉仪,精度非常高,有着位移测量的能力,可以实现出纳米级的同步运动,非常精密,这样的技术就是美国也没有办法做到
可见光刻机的建造难度极大,而其的建造,也代表着现如今最完整的高尖端工业体系,代表的是一个国家真正的科技力量,和真正的工业实力,因此是不容小觑的