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数据显示，全球一共售出478台前道光刻机，被ASML、尼康、佳能瓜分了

其中ASML拿下了其中的309台，占比为65%，接近三分之二的市场

而尼康为6%，佳能为29%

但是在高端EUV光刻机领域，ASML占据了100%的市场，而在次高端的在ArFi和ArF光刻机领域，也分别占据96%和88%的市场

当然，目前全球也在研发其它技术的光刻机，比如多电子束直写光刻机（MEB）、定向自组装技术（DSA）、nm压印技术（NIL）等不同新技术也，希望这些技术有所突破，那么我们就不必依赖ASML了，否则真的太难超越它了

中国作为目前世界上的第二大经济体，在很多高精尖领域都引领着技术的发展，但有一样象征着工业强国的科技产品，我国始终无法完成自产，这就是EUV光刻机

   光刻机的含金量目前全世界能够制造EUV光刻机的国家只有两个，荷兰和日本

这样的操作看似简单，但却全程保持着纳米级别的精密加工

尤其是光刻机从DUV迭代到EUV后，加工精度更加夸张，对中国的光刻机制造单位而言，突破精度的技术壁垒，比登天还难

哪怕是我们有幸得到了最先进的EUV光刻机实物，也因为达不到相同的加工精度而无法国产

有兴趣的朋友可以去美国知识产权中心网站查阅一下 EUV的专利，你会发现，我们公司、科研机构、大学等都拥有 EUV的专利权，你可以去上海光机所看看， EUV光刻机的招聘工作，也是最近才开始招人的

国望光电在年初就已经在竞标无尘室内，国望是国内主要的光刻机曝光设备，各位可以看看下面的图片

ASML靠着双工件台、浸润系统和 EUV技术，一步步成为光刻机行业的龙头老大， ASML很清楚，他们只是一个默默无闻的光刻机工厂，而光刻机美企业的老大，却已经没落了，所以，在这个领域，很少有人能一直赢下去

然而在EUV光刻机面世之前，一直都是使用的DUV光刻机，使用的是短波紫外线，突破到极紫外线，一共花费了20年的时间才完成，可见对于光源的选择使用，其的难度是非常大的，没有捷径可走

2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具，然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术

然而要说到能够制造光刻机的国家，那还是能数上几个的，可要说高端光刻机，要严格来说，那就只有荷兰了，根据数据显示，荷兰ASML公司是真正的全球光刻机龙头老大，以一家之力，占据全球91%的市场份额，足以可见其的实力有多强，虽然其的核心技术还主要属于美国和德国，但是真的是非常了不起了

究竟能制造多少纳米的芯片?

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如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

在ASML对中国销售光刻机踟蹰不前的时候，今年三季度中国招标了28台光刻机，其中21台给了日本企业，而中国本土企业取得了7台光刻机订单，ASML一台都没有得到，中国显示的态度就是世界上供应光刻机并非只有ASML一家

第三次购买先锋刻录机了，质量很好，价廉物美，值得大家购买，5星好评！超值、超值、超值……质量保障，大品牌值得信赖

为此近期荷兰的高官都开始站出来为ASML说话，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔表示将捍卫荷兰企业的经济利益，以确保荷兰的经济发展，据称荷兰已与美国商讨ASML的自由出货权问题，如今ASML向中国出售光刻机，意味着荷兰的谈判已取得进展

制造光刻机为何这么难

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然而在EUV光刻机面世之前，一直都是使用的DUV光刻机，使用的是短波紫外线，突破到极紫外线，一共花费了20年的时间才完成，可见对于光源的选择使用，其的难度是非常大的，没有捷径可走

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其实类似的现象在石墨烯技术上也有所体现，石墨烯技术被认为是最尖端的技术之一，由于它自身的特性，石墨烯技术用于电池上可以提升电池容量和充电速度，用于芯片上则可以大幅提升性能，因此全球都在积极研发石墨烯技术