滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

之后理论上数值孔径还能够再提升，比如达到0.7等，但已经没太多必要了，非常不值得，因为成本太高了，难度太大，估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机，其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右，而INTEL也计划用它在2025年左右，量产2nm、1.8nm的芯片

不管是台积电，还是三星，或者intel，都不敢也不能得罪ASML，否则不卖EUV光刻机给你，就“芭比Q”了

按照ASML CTO的说法，到2025年时，ASML会推出全新一代的极紫外线光刻机，型号会是NXE:5200，其采用的数值孔径会达到0.55NA，数值孔径越大，精度越高

目前全球能够制造光刻机的厂商，真不多，可能也就4家，分别是ASML、日本佳能、日本尼康，还有上海微电子

那么这4家各自在市场表现如何？近日，有机构统计了2021年全球前道光刻机的销售情况，一共是478台（注：数据真假未知，但以机构的知名数，估计不会有假）

日本厂商则在低端的KrF、UV(i-line）上有一定优势，特别是最低端的UV光刻机上，占了大头

可见，整个前道光刻机市场，还是ASML说了算，日本厂商，拿走的是ASML看不上的低端市场，而国产连低端市场都抢不到

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

究竟能制造多少纳米的芯片?

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不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等

不愧是老牌子，质量杠杠滴，上一个也是买的先锋，用了快十年，还能继续用，这次再买个新的，速度不稳定，忽快忽慢的，但是快起来的时候真快

ASML向中国交付光刻机可能仅仅是开始，因为ASML已表示将在未来两三年将EUV光刻机产能扩张到90台，DUV光刻机产能扩张到600台，大规模扩张光刻机产能瞄准的客户除了中国恐怕再无其他，可以预期ASML未来必然会加大对中国出售光刻机的力度，不会再看美国的脸色

如今的中国飞速发展，各行各业都离不开芯片，虽然部分芯片中国可以国产，但是在高尖端芯片还是稍显不足，需要依靠进口芯片或者高端光刻机

而作为全球为数不多能生产EUV光刻机的荷兰阿斯麦公司自然不会放过中国这么大的市场，所以与中国之间的合作也是越发紧密

简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东，还没用，应该没问题。物流超快。

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综合起来看，要想芯片制造水平达到7nm，需要EDA支持7nm，半导体材料也是支持7nm，半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备，就算我们突破了，美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们，因为目前国产的半导体材料、半导体设备，很多在28nm甚至更成熟的工艺，达到7nm的少之又少

还有一些材料，也需要达到7nm，比如光刻胶，7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶，但我们自给率为0

后道工序，这里主要涉及到的是封测，相对要求会低一些，但也是有工艺精度要求的

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已成芯片制造的最大短板了

刻录机现在很少用到了。价格也是超便宜。买一个来读一些以前的碟。小孩的巧虎也能播一下。还没试用，应该都没啥问题的了。先锋的刻录机以前一直用。没想到现在还在卖，和索尼两分天下。图它比索尼便宜20块，选了先锋。送了一条sata数据线，挺好的。

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曾有美国教授指出，如果建造原子弹难度是1，那么中国造光刻机的难度是10，因此有不少人发出疑问，原子弹和光刻机到底哪个更难造？甚至有人说，为什么我们把原子弹都造出来了，为何还造不出光刻机呢？这要说，这两者根本不具备可比性，以目前的技术来说，我们建造原子弹，自然已经不具备难度了，可是能否认原子弹是尖端技术吗？就在几十年前，更是世界最尖端技术的存在，我们建造出第一枚原子弹不难吗？科学家们，用算盘、手摇计算机、第一代电子管计算机算出核弹，能不难吗？难，只是以目前的技术来说，再看过去，难度好似降低了

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