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光刻机的技术难点先进光刻机制造的第一个难点就是机器的光源问题,在EUV光刻机问世以前,DUV光刻机是世界的主流,二者最大不同在与将DUV上193纳米的短波紫外线改为了13.5纳米的极紫外线,光刻机精度取得了跨越式发展
而这恰恰是工业发展历史不长国家的命门,也是目前我国暂时造不出真正先进水平光刻机的真实原因
光刻机与原子弹,谁更难?说到这里,有人不禁要问,中国曾在一穷二白的时期,独立研发过原子弹,为什么就是研制不出好的光刻机?其实,原子弹这样开创新技术的装备,研究的重点在于搞清楚原理
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制造光刻机太难了
虽然美国同样没有光刻机的制造技术,但考虑到荷兰与日本同美国的同盟关系,英法两国又是西方阵营里的欧洲强国,实际上只有中俄被排除在EUV光刻机俱乐部以外
我们都知道电子产品的运行依赖芯片,芯片就如同电子产品的大脑,芯片越强大,电子产品的功能就越强大
suss光刻机的使用要领
芯片作为一种高度集成化的科技产物,能以很小的体积运行天文数量的晶体管,用中国古话来讲,就是螺蛳壳里做道场
而光刻机就是为了完成这样微小却精细的操作而生的
光刻机启动后,会发射紫外线去除晶圆表面的保护膜,再将电路图形精准投射到晶圆上,以制造出符合芯片需求的图形区域
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这一现实情况促使我国迟迟落后于不断进步升级的光刻机工业,被荷兰日本超过许多,又始终找不到破解的法门
靠着光刻机技术的垄断,美国及西方世界将中国死死阻挡在先进芯片国家序列以外
从这一点来说,我国在光刻机研发上面临的内外交困比制造原子弹那时还要严峻,制造光刻机的难度也比原子弹更大
先锋的刻录机用过两台了,第一款是DVD刻录机用了好多年,后来升级成蓝光刻录机已经用了6年,刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定,现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。