简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东,还没用,应该没问题。物流超快。
其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机,只有ASML能够生产
而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机,但佳能、上海微电子却还停留在90nm,只能生产低端的光刻机
而在精度方面,90nm肯定没问题的,同时经过两次曝光,可以得到45nm的芯片,三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
那么能不能四次曝光,五次曝光,将精度提升上去?事实上,在实际使用中,2次曝光就已经很厉害了,像ASML等的光刻机 ,大多也只是进行2次曝光
中微公司有能力研究光刻机吗
大品牌的外置光驱,一直都用这个牌子。从前的内置光驱也是一样。主要是性能稳定,耐用。刻录光盘很少报废,速度很快。现在新电脑都很少配置光驱,买他就很方便。
大品牌,质量很好,性价比很高,安装使用方便,读写速度很快,光盘质量好的时候声音很好,使用有的光盘时候有较大声音。
在光存储这个领域中,日本的先锋品牌的确独树一帜,稳定高效,特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的,前置面板大黑,尽显优雅高贵,LOGO是白色的,装在机箱中大气豪华,这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年,值得信赖。读盘速度:速度很快,质量挺好。读盘声音:声音小没噪音稳定性能:很稳定。轻薄程度:适中吧外形外观:外观都一样产品包装:包装结实!
究竟能制造多少纳米的芯片?
“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机,因为它必不可少,同时光刻机的好坏,精度,决定了芯片的精度、良率等等
不过大家也清楚,光刻机目前全球只有4家厂商能够生产,分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子,ASML是荷兰企业,尼康、佳能是日本企业,而上海微电子是中国企业
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因为实践表示,3次曝光会导致良率大幅度下降,4、5次良率可能会低到没法想象,晶圆厂们的成本高到没法承受,不如买一台更高级光刻机,成本还低一些
所以,目前国内在努力的研发28nm的光刻机,这样经过两次曝光后,可以搞定14nm,至于7nm工艺,那最好还是期待EUV光刻机,用28nm的来曝光三次,良率没法看
用起来银好,读碟能力超级强大,价值也很实惠,值得购买的一款光。读盘速度:快读盘声音:小稳定性能:好产品包装:包装严实非常不错
不过也有人称,光刻机所指的精度,并不是指能制造芯片的精度,光刻机可以通过多次曝光,提升分辨率的,那么问题就来了,上海微电子的90nm光刻机,最多能生产多少纳米的芯片?据资料显示,目前上海微电子的90nm的光刻机,主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等
自己几分钟换好了,刻了几个文件试试,很快,也没什么噪音,很不错,但愿能多用一阵子,先好评