滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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值得一提的是，这已经是施赖纳马赫尔在一周内第二次就该问题，向外界明确表达荷兰政府的拒绝态度了

数日前，她在接受荷兰媒体采访时就强调，美方不应指望能在芯片问题上说服荷兰，荷兰会在与美国、日本等国磋商后，做出自己的评估，不会“完全照搬”美国对华颁布的芯片出口限制措施

送货依然很快 到了就装上了 很快很静音 以前的也是先锋的 用了很多年很多次 买新的依然选择先锋

ASML向中国交付光刻机可能仅仅是开始，因为ASML已表示将在未来两三年将EUV光刻机产能扩张到90台，DUV光刻机产能扩张到600台，大规模扩张光刻机产能瞄准的客户除了中国恐怕再无其他，可以预期ASML未来必然会加大对中国出售光刻机的力度，不会再看美国的脸色

再是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机，绕开了ASML的EUV光刻机，并且将先进工艺提升到0.768纳米，这意味着美国芯片企业未来可能不再采购ASML的EUV光刻机，这更是要了ASML的命根，毕竟光刻机业务就是ASML的根本

显然，这都不是在最近期限才顶住所谓压力而出货的光刻机

我们也完全没有必要高估ASML对自己出货的决心

不过有一说一，在出货光刻机上ASML确实是态度很坚决，在老美提出了多次要求，或者说是软硬兼施之下ASML还是没有改变自己的态度

制造电脑芯片用光刻机吗

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而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试

而这里也要用到各种设备，众多的材料，光刻机只是其中的一种设备，这些设备大多和光刻机一样，是有精度要求的，分别要求达到7nm

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“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机，因为它必不可少，同时光刻机的好坏，精度，决定了芯片的精度、良率等等

不过大家也清楚，光刻机目前全球只有4家厂商能够生产，分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子，ASML是荷兰企业，尼康、佳能是日本企业，而上海微电子是中国企业

而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

这个先锋的刻录光驱一直在用，质量很不错哦，而且京东上购买质量比较放心，价格也比较实惠，京东的发货速度和送货速度都很快哦，服务好超级棒。

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目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了

不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等

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而这恰恰是工业发展历史不长国家的命门，也是目前我国暂时造不出真正先进水平光刻机的真实原因

光刻机与原子弹，谁更难？说到这里，有人不禁要问，中国曾在一穷二白的时期，独立研发过原子弹，为什么就是研制不出好的光刻机？其实，原子弹这样开创新技术的装备，研究的重点在于搞清楚原理

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光刻机的技术难点先进光刻机制造的第一个难点就是机器的光源问题，在EUV光刻机问世以前，DUV光刻机是世界的主流，二者最大不同在与将DUV上193纳米的短波紫外线改为了13.5纳米的极紫外线，光刻机精度取得了跨越式发展

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同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术，然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用，于是台积电才找上ASML，而当时的ASML相当落魄，寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视，但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局，于是与台积电一拍即合

高端euv光刻机制造很难吗

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除了设备过于昂贵之外，EUV光刻机的耗电量也是剧增，据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%，如果引入第二代EUV光刻机，预计耗电量将进一步上涨，不知中国台湾能否撑得住，昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受，这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵

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