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芯片制造是一个非常复杂的流程，涉及到几十种设备，上百道工序，主要可以分为单晶硅片制造、前道工序、后道工序这三部分

单晶硅片涉及到各种半导体材料，目前国内整体半导体材料的自给率不足20%，特别是14nm以下的半导体材料自给率就更低，高度依赖国外进口

先锋6X蓝光刻录机外观很美观，做工精细超薄的外表很喜欢，Type-c接口比较通用的接口， 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统，支持千年光盘/BDR-XS07CS，正在使用中

光驱，哈哈已经是牙齿掉光的产品了，估计再过几年就消失了，小朋友学校里面有光盘，直接买了一个，装上，方便使用，以前还记得是很高大上的额东西，现在都已经快被淘汰的，感叹啊，先锋这个牌子估计以后也会慢慢的越来越少看得到！好评！

买回来第二天就用上了。刻录稳定且DVD读取速度也无碍。非常适合我。一直都是用先锋的光驱，厦量还可以。试了一下读碟正常。刻录方面没试，平时很少用。

当初我们原子弹制造是从0到1的跨越，万丈高楼平地起，而光刻机要说，其实是从1到2的进程，只是目前我们没有办法研制高端光刻机，因此我们要做的，就是将高端技术走向高精端，只是这个过程并不容易了

发货快！！到货快！包装完好 很满意！以后继续买！不错，先锋用了三台了，质量很满意，下一台还是先锋。

事实上，刻蚀机之前也是被美国禁运的，但随着中微公司的先进刻蚀机后，禁运也就没意义了，于是放开了市场，中国厂商可以随便买

而技术相对落后的则是光刻机了，目前上海微电子生产的光刻机，其标注的精度还在90nm

而ASML的光刻机，已经能够生产3nm的芯片了，这中间的差距还是相当大的

可见，光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了，所以国产光刻机真的要努力才行，不说实现5nm，先实现28nm，再搞定14nm，先实现与其它国产半导体设备一个节点才行，你觉得呢？而只要国产半导体设备有了突破，达到先进水平，禁运也就没有了任何意义，也就会全面放开了，刻蚀机就是最好的例子

那么问题来了，当前国产半导体设备中，技术最先进的是哪一种，技术相对最落后的又是哪一种呢？上图这张图，其实说得非常明白了

刻蚀机应该是当前国产半导体设备中，唯一达到国际先进水平的，已经达到了5nm

这家公司就是中微公司，其生产的刻蚀机，早就实现了5nm，被台积电、中芯等晶圆厂使用

先锋的光驱还是不错的，外观设计简朴大方黑色非常耐看，大小正合适，使用了一下，使用正常没问题。另外，京东自营配送速度很快，包装完整无缺，昨天下单，今天中午就收到货了。

2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点

抢占市场

读盘速度：8倍速，速度一点也不卡顿。先锋在光存储领域有着多年研发经验,是做刻录机的大品牌。 读盘声音：声音不大，外接放置也很稳。 轻薄程度：轻薄，手感很好。 外形外观：黑色磨砂质感，看起来稳重显高级。 产品包装：盒子里有防震保护，盒子外面套塑料袋，干净。 快递速度特别快，从下单到拿到手，只用了不到5个小时。

当然，ASML肯定不会承认是怕别的技术或厂商抢了市场，只说自己是看到市场需求过大，供不应求，所以才扩产的

但事实是，当一个市场，只有一家企业能提供产品时，这个市场就是被垄断着的，所以ASML就算再增加产能，也一定会有其它厂商有其它想法

京东的物流很快，主板的质感很好，感觉的出来做工很精良，目前还没有装机，一直用先锋刻录机很好

三星买国内光刻机

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等

读盘速度：快， 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻 稳定性能：目前使用稳定性好 产品包装：包装精致

第三次在自营店里头买这款刻录机了，非常好用，第一台17年买的到现在还在使用哦，真是耐用啊，虽然只能刻CD了，这台买着备用，自营的质量就是放心，比**的货强多了！

中国制造芯片需要的光刻机

　　8月15日，美国商务部正式将金刚石、氧化镓两种半导体材料、用于GAAFET架构集成电路所必须的ECAD（EDA）软件、用于燃气涡轮发动机的压力增益燃烧技术加入到商业管制清单

先是美国芯片企业美光已研发绕开EUV光刻机的1β工艺，这项工艺比采用EUV光刻机降低了六成的成本，存储密度、功耗等指标也更优秀

更让ASML忧心的是全球芯片行业的变化，全球芯片行业已从过去两年的火热迅速陷入冰点，最大的EUV光刻机采购客户台积电已关闭部分EUV光刻机，甚至还将部分EUV光刻机从中国台湾转运至美国的5nm工厂

质量非常好！做工精良！很有分量！比笔记本光驱强很多！第一次买光驱就买了先锋的！刚攒好的台式机配的，组装台式机，没有光驱总感觉缺少点什么。虽然现在光盘不流行了，还有好多说明书是光盘形式的，另外还有cd音乐盘也需要光驱来读，小孩子的教科书配的cd也需要，所以不能缺少光驱，感觉能用好久！

图为国产光刻机考虑到光刻机技术的发展需要大量时间沉淀，在目前阶段，中国应该大力发展中低端光刻机技术，并实现大规模量产交付，以此来扩大产业规模，培养技术人才，只有这样，中国才能追上与西方在技术上的差距，并早日实现高端光刻机的国产化

由此可见，目前在芯片领域被卡脖子的中国，想要实现光刻机的国产化是相当困难的，但生产国产光刻机并不是不可能，出于技术积累与人才储备不足的问题，中国目前显然无法完成高端光刻机的国产化，但对于中低端光刻机，中国有足够的实力去完成国产化，目前上海微电子公司就已经展开了对28纳米工艺光刻机的研发，该光刻机将于今年交付使用，虽然28纳米制程落后于国际领先水平，但这却让中国的光刻机工艺从90纳米直接步入28纳米，属于重大进步