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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML真的慌了,高端euv光刻机制造很难吗

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同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术,然而当时的龙头企业日本尼康佳能不愿意采用,于是台积电才找上ASML,而当时的ASML相当落魄,寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视,但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局,于是与台积电一拍即合

提到中国的光刻机时候,都会谈到上海微电子,然而上海微电子类似于ASML,它自身只能负责部分元件的制造,还得大量外购光刻机元件,最终由它组装成光刻机,正是由于产业链的发展难度大,导致了国内的光刻机在追赶ASML过程困难重重

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ASML真的慌了

光刻机的难度相当大,在于它自身就是一个庞大的产业链,DUV光刻机的重量达到500公斤,由1万多个元件组成;EUV光刻机更是重达180吨,由10万多个元件组成,正是因为它的复杂性,所以ASML自身无法生产所有元件,需要由德国、美国、日本等全球诸多产业链企业配合才能生产出光刻机

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好在这一切,如今都逐渐得到改变,经过数年的发展,国产光刻机产业链如今已逐渐成型,双工作台有华卓精科,激光光源系统有科益虹源、虹科光电等,浸润系统则有启尔机电等,还有镜头系统、曝光光学系统等都有国产厂商在做,并且这些产业链企业都位居全球前三,甚至居于全球第二

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直到近几年,国产光刻机得到重视,上海微电子和国产光刻机产业链也确实争气,短短数年时间就连续打破空白量产的封测光刻机已得到业界的认可,其中早前富士康青岛封测工厂就一下子采购了上海微电子的46台封测光刻机,为上海微电子和国产光刻机提供巨额收入,这将加速它们研发制造芯片的光刻机,而如今产业链陆续突破,业界专家表示将不仅一次过攻克28nm光刻机,还将在明年底之前量产14nm国产光刻机

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ASML真的慌了,高端euv光刻机制造很难吗

高端euv光刻机制造很难

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