滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

办公需要刻录光盘做数据保存，这款读盘能力很强，速度很快，震动不大，有轻微的声音，日常使用基本上不会察觉到；刻录写入时比18x的要快不少，过程很稳定，不会出现数据错误或者写完读不出的情况，购买时还赠送sata数据线，很方便。

一直选择在京东购物，特别是京东自营店，质量有保证，享受下单后，很短时间内就能体验上产品的感觉，快递小哥服务很好，非常感谢。包装盒看舒服。心理作用还是买个光驱，可能就用一两次，活动价99，便宜。小白装电脑，自我感觉良好，还在选配件，攒机中。担心配件攒齐后出问题过售后期了，就麻烦了。但为了省钱，没办法

中国已生产14纳米光刻机

先锋蓝光刻录机己收到，质量很不错。物流送货上门，非常方便，很好，安装到位，正在调试，物流也很快。昨天下午下单，今天上午就到了

无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求

终端市场推动了成熟制程的产品越来越多，比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等，成熟制程市场空间不断增长

英特尔称，公司将成为 ASML 第一台 EXE:5200 的买家

与 EXE:5000 相比，EXE:5200 预计将带来几项改进，包括更高的生产率等等

在最新款高 NA EXE:5200 光刻机的订购方面，台积电、三星也有所动作

纳米光刻机可以做什么

三星方面，据韩媒 Business Korea 报道，李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时，拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管，广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应，并取得“额外”的 EUV 光刻机设备

吕特还强调，欧盟在与美国联系的同时，也需要顾及到自身的利益

在G20峰会期间，吕特也是表达出了类似的意愿

中国方面早就指出过，美国滥用国家力量，对盟友进行胁迫，不是正确的道路，最后只会将自己的路给堵住

正如美国前国务卿基辛格所说的，做美国的敌人很危险，但是做美国的朋友却更加要命

荷兰此番表态就意味着，荷兰将继续向中国出口光刻机

阿斯麦也是拧得清孰轻孰重，根据相关数据显示，受到美国禁令影响，其三季度的订单下跌趋势明显

另外值得一提的是，半导体领域90%的关键原材料均源自中国，所以荷兰就更加不想与中国作对了

“中国不太可能独立复制出顶尖的光刻技术

”不过这样说完之后，他还是做了补充：“这也并不是绝对不可能，因为中国的物理定律和我们这里是一样的”

对此王传福更是直接回怼，光刻机是人造的，不是神造的

Peter Wennink ASML CEO这里阿斯麦老板提到的是顶尖的光刻技术，就是EUV

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

究竟能制造多少纳米的芯片?

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读盘速度：很快，比以前家里的快多了。 读盘声音：声音小，也很正常。听到一直在读盘的声音感觉心里很踏实。先锋真的好牌子。 稳定性能：稳定好用，没有出现过问题。 轻薄程度：轻薄好拿。快递给我的时候掉到地上了，也没有摔坏。还很正常的用。 外形外观：外观好看。真的不错

上次买的华硕，这次买先锋的，同样品质和价格喜人，读盘能力强，声音小，读取快速，刻录时间和刻盘质量稳定，一次买了2个，单位上用的，同事用了都说可以，六一八期间促销还有卷送，总共买东西便宜了一二百，非常满意的购物体验。

第三次购买先锋刻录机了，质量很好，价廉物美，值得大家购买，5星好评！超值、超值、超值……质量保障，大品牌值得信赖

ASML 公告称，截至 6 月 30 日的三个月，公司收入为 54.3 亿欧元（约 374.67 亿元人民币），高于 2021 年同期的 40 亿欧元；净利润为 14.1 亿欧元（约 97.29 亿元人民币），高于去年同期的 10.4 亿欧元

ASML 表示，利润率受到了通胀成本上升的影响，此外，一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货，导致了延迟确认收入，从而影响了收益

为了这一刻，李在镕显然准备已久

2020年9月，背了两个案子的李在镕在正式吃上牢饭前，不顾父亲李健熙病危，在10月紧急飞往荷兰，会见了光刻机巨头阿斯麦（ASML）的高管，只为确认一件事：订购的9台EUV光刻机，年底一定要到货

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简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东，还没用，应该没问题。物流超快。

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

得不到国外的先进光刻机，就只能自力更生，争取制造出国产光刻机

据悉，经过国内科技工作者以及相关企业的努力，中国在光刻机以及周边相关的卡脖子技术领域取得了一系列突破

面对中国取得的成就，西方国家和企业不是理性地看待，而是又打起了打压的念头

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中国22纳米光刻机突破

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