随着光刻机变得更加负责,光刻机的耗电量也在激增,业界人士指出High-NA EUV光刻机的总功耗将达到200万瓦的水平,每天耗电量将达到4.8万度电;如今台积电仅是推进至5nm工艺,它消耗的电力已占中国台湾省的8%,业界预期推进至3nm之后它消耗的电力将占中国台湾的12%
当前的EUV光刻机技术是通过将镜头放在液体里,通过液体和镜头等的多重折射最终打印出更小的结构,从而制造更先进的工艺,然而这种方式随着向更先进的工艺推进,这种方式导致光刻机日益笨重,光刻机自身的成本也因此激增,第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元,预计High-NA EUV光刻机售价将达到4亿美元