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如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等

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不能不紧张啊，没芯片，什么也做不出！就是这么残酷！全世界都清楚，他们如果向中国出口一台先进的光刻机，我们就能仿制，并且还能青出于蓝而胜于蓝，价格也会直线下降；世界上没有傻子，美国、荷兰、日本，肯定极力封锁光刻机的中国市场及技术中国市场大，需求多，很需要光刻机；我们也找过荷兰相关公司进行协商，但没有任何进展

芯片是干什么用的？这个问题可能有人会笑，意思是太初级，太简单；是的，芯片的用途有人可能不知道，但是，全世界的每个人几乎都在用芯片，这话没夸张，是实话！芯片的用途：手机、高铁、汽车、电网、家用电器、医疗设备、各类自动化设备等芯片的作用：进行运算，处理各类任务，输出数据和指令

在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机

还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机

在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了

如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%

目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的

而DUV光刻机又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；而ArF Dry用于65nm，还有KrF用于180nm等等

目前全球的光刻机厂商，真不多，特别是用于芯片制造的，也就是前道光刻机，全球也就四家，分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子

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众所周知，目前所有的芯片制造，均要经过光刻这么一个工艺，所以光刻机是必不可少的半导体设备

顾文军对《环球时报》记者表示，美国对中国半导体产业的限制，已经从制裁中国半导体企业，到限制国外半导体企业在华发展

如今，国际企业内部也有不同的声音

一方是看中国政策应对，并希望推动与华合作，甚至加大在中国的投资，也有人在考虑削减对华投资，奔赴美国

光驱，哈哈已经是牙齿掉光的产品了，估计再过几年就消失了，小朋友学校里面有光盘，直接买了一个，装上，方便使用，以前还记得是很高大上的额东西，现在都已经快被淘汰的，感叹啊，先锋这个牌子估计以后也会慢慢的越来越少看得到！好评！

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当然，目前全球也在研发其它技术的光刻机，比如多电子束直写光刻机（MEB）、定向自组装技术（DSA）、nm压印技术（NIL）等不同新技术也，希望这些技术有所突破，那么我们就不必依赖ASML了，否则真的太难超越它了

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中国9纳米光刻机突

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现在最新光刻机是几纳米

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近期ASML终于认识到市场的变化，ASML的高管表示它是一家欧洲企业不会完全遵从美国的要求，ASML所在的荷兰也表示ASML拥有自由出货的权力，毕竟ASML对于荷兰经济影响甚大，似乎都显示出在生存的压力之下，ASML或许会改变对中国市场的态度，说明市场只有竞争才能更健康，中国也会有机会获得先进光刻机

因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！

光刻机是芯片制造中必不可少的核心设备，简单来说可以分为用于7nm及更先进制程的EUV光刻机和用于10nm~130nm的DUV光刻机

其中前者一直对国内处于禁售状态，时至今日国内也没有一台EUV光刻机