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“02专项”出窍，看国内现状中国目前技术最为先进的光刻机是上海微电子公司生产的90nm光刻机，其实对于光刻机的发展，中国一直在不断尝试，早在06年就成立了02专项，经过十几年的发展，在光刻机各方面已经有了长足的进步

研发的光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机，成本相对低廉，X射线光刻机使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高很多，加上俄罗斯具有雄厚的工业基础，可以一探究竟

光刻机主要分为哪些部分呢？其实主要是双工件台、光学系统、物镜系统、控制软件，让我们看看国内在这些方面都有哪些突破呢？双工件台由华卓精科负责，华卓精科成功研发超精密磁浮双工件台系统，打破ASML垄断，使中国成为全世界第二个掌握该项技术的国家

俄、日纷纷加紧研制新一代光刻机

物流很快，买完第二天就到了，现在已经刻了快50张光盘，无一失败，就是不知道能用多久，希望能多用几年

上海大学光刻机

有网友表示，在财政困难的情况下，竟然拿出如此一笔巨款开发光刻机，相信俄罗斯是认真的，一旦研发成功或将也惠及中国半导体市场

读盘速度：读速很快 读盘声音：一般情况下，声音较轻 稳定性能：稳定性高 轻薄程度：大小合适 外形外观：外观美观 产品包装：包装精美，质量可靠

使用了一下，外形挺简洁，放DVD很好用，刻录暂时没用。安装简单，读取速度快，希望可以使用期限可以久一些。京东得物流依旧是很不错

而从工艺技术和制造成本综合因素考量，EUV 光刻机（极紫外光刻）被普遍认为是 7nm 及以下工艺节点的最佳选择

目前，在全球范围内仅有荷兰的 ASML 公司能供应 EUV 光刻机

俄、日纷纷加紧研制新一代光刻机

可能看到了苹果M1 Ultra处理器在芯片堆叠技术的大获成功，以及最近非常火热的小芯片技术，感觉3D技术会很香，让日本厂商看到了在此翻身的希望

写在最后，光刻机市场一时间风起云涌，相信这一定让ASML非常担心，担心自己的垄断地位不保，前几天ASML一哥还放软话，“不是我们不愿意卖，而是受政府限制

另据韩媒 Business Korea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电

随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响

为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定

更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率

ASML 表示，第一台 0.55 NA EUV 光刻机原型试预计 2023 年交付，2025 年后量产，第一台预计交付英特尔

芯片厂商冲击 2nm 工艺根据 Gartner 分析师 Alan Priestley 的预测，0.55 NA EUV 光刻机单价将翻番到 3 亿美元（约合 20 亿元人民币）

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光刻机主要分为哪些部分呢？其实主要是双工件台、光学系统、物镜系统、控制软件，让我们看看国内在这些方面都有哪些突破呢？双工件台由华卓精科负责，华卓精科成功研发超精密磁浮双工件台系统，打破ASML垄断，使中国成为全世界第二个掌握该项技术的国家

另辟蹊径，一心超越EUV近日有消息称俄罗斯正在开发一款全球领先的光刻机，甚至比ASML最先进的EUV光刻机还先进，俄罗斯莫斯科电子技术学院承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）

ASML 官宣新一代光刻机研发进展

用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构

日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展

根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现

在今年 6 月 17 日举行的技术研讨会上，台积电研发高级副总裁米玉杰表示：“展望未来，台积电将在 2024 年引入高数值孔径的极紫外（高 NA EUV）光刻机，为的是开发客户所需相关基础设施和模式解决方案，进一步推动创新

另据韩媒 Business Korea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电

随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响

中国研究光刻机的企业

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ASML 共售出 136 台 EUV 光刻机在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 也披露了 EUV 光刻机的出售数据

”此外，根据台积电早前消息，公司今年资本支出为 400 亿美元至 440 亿美元，多数用于先进制程

此次三星若能争取到更多 EUV 光刻机，则今年至少可获得 18 台，不过三星未详细说明此次获得的“额外”EUV 设备内容

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