“国内并不缺乏优秀的芯片设计企业,芯片设计能力全球领先,只不过是国内没有能够制造高端芯片的企业罢了
”老美对华为芯片环节进行制裁后,华为创始人任正非接受央视记者采访时说出了“中国芯”的现状
众所周知,芯片制造是一项庞大的项目工程,需要使用到EUV光刻机、蚀刻机等一百多套高尖端设备,以及大量的软件和化学材料,需要集中全球半导体产业链的力量
读盘声音:声音小 轻薄程度:比较有质感 外形外观:质量看着很好 产品包装:包装完美 读盘速度:运行快 稳定性能:特别稳定
“国内并不缺乏优秀的芯片设计企业,芯片设计能力全球领先,只不过是国内没有能够制造高端芯片的企业罢了
”老美对华为芯片环节进行制裁后,华为创始人任正非接受央视记者采访时说出了“中国芯”的现状
众所周知,芯片制造是一项庞大的项目工程,需要使用到EUV光刻机、蚀刻机等一百多套高尖端设备,以及大量的软件和化学材料,需要集中全球半导体产业链的力量
读盘声音:声音小 轻薄程度:比较有质感 外形外观:质量看着很好 产品包装:包装完美 读盘速度:运行快 稳定性能:特别稳定
当然了,现阶段的“中国芯”仍处于爬坡、破冰阶段,我们要坚持“两条腿走路”的策略,在大力发展下一代芯片的同时,要积极解决传统芯片“卡脖子技术”,夯实“中国芯”的根基,做到它无我有、它有我优,彻底打破美芯的封锁,让任何人都不敢轻易地欺负我们
其次,美光绕开EUV光刻机制造出了能效提升25%、存储密度提升30%、功耗降低20%的高性能DRAM芯片,日本佳能、铠侠联手成功研制出纳米压印微影(NIL)工艺技术,将高端芯片的制造成本降低了40%左右
老美对于EUV光刻机近乎歇斯底里的管控,引起了ASML公司的极度不满,该公司CEO彼得・维尼克曾多次向老美发出警告:如果不卖给中国EUV光刻机,用不了几年,中国人就会找到有效地解决方案,拉下EUV光刻机时代的帷幕
其次,美光绕开EUV光刻机制造出了能效提升25%、存储密度提升30%、功耗降低20%的高性能DRAM芯片,日本佳能、铠侠联手成功研制出纳米压印微影(NIL)工艺技术,将高端芯片的制造成本降低了40%左右
第三次在自营店里头买这款刻录机了,非常好用,第一台17年买的到现在还在使用哦,真是耐用啊,虽然只能刻CD了,这台买着备用,自营的质量就是放心,比**的货强多了!
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