虽然在过去的几年里,ASML公司明确表示不会“脱离”中国市场,将会加强与中企的合作,帮助中企提升芯片制造能力,但由于该公司制造的EUV光刻机使用了大量来自美国的半导体技术和元器件,即便是收了中芯国际等国内芯片制造企业EUV光刻机的全额货款,也不能向这些企业发货
其次,美光绕开EUV光刻机制造出了能效提升25%、存储密度提升30%、功耗降低20%的高性能DRAM芯片,日本佳能、铠侠联手成功研制出纳米压印微影(NIL)工艺技术,将高端芯片的制造成本降低了40%左右
“国内并不缺乏优秀的芯片设计企业,芯片设计能力全球领先,只不过是国内没有能够制造高端芯片的企业罢了