滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年荷兰的光刻机是什么东西

同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力

因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式

哪个国家的光刻机最厉害

非常好用，安静，可以读取和刻录dvd-ram碟片，但我发现这款和华硕那款同价位的造型都一样，功能也一样，怀疑是同一间厂生产。

编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

专门咨询计算机的朋友选的这款，很好用，速度很快，也没什么噪音，价格也公道，京东送货也超快，不耽误时间，很满意！

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年

刻碟速度很快，CD碟5分钟内刻完，大品牌，质量有保障，物美价廉，值得信赖。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机质量非常好 长期使用中 值得信赖 好评五星

比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展

同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力

因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式

2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势

非常完美的刻录机。现在公司买的小型主机几乎都没有像以前那这样自带光驱啦。所以必须买一个外带光驱用来读取和刻录光盘。机器黑色耐脏而且包装也很好。使用过了，没有任何问题。

读盘速度：很快 读盘声音：很小，几乎听不到声音 稳定性能：性能稳定 轻薄程度：与台式机配套合适 外形外观：精緻 产品包装：严实无破损。

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右

很满意的一次购物，商家服务好，发货神速，物流也很给力，宝贝收到后非常喜欢，买得放心，用得安心当时买的时候还在犹豫价格，买来之后一点都不后悔，而且物流还快，可以入手

稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻

读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。

读盘速度：快，对办公用来说足够了 外形外观：颜值派很喜欢，有质感，简洁大方 轻薄程度：中等吧 稳定性能：陆陆续续买过一些先锋的产品，整体而言很耐用，使用无特殊状况。 产品包装：无破损，保护得当。物流也很快。 这不是一个好评模板，但也算是一个好评模板，买东西评价也是一个很有必要的事情，分享使用的的好与不好，为他人提供建议，可以做参考，自己每次买东西前也会浏览别人的评价，看完也会觉得更加踏实，卖家秀令人迷惑，买家秀才更为真实，也可以让我们冲动的时候冷静一下头脑，更清醒的考虑到底适不适合自己，还需要不需要买。

中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式

同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力

同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力

因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式

2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势

第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）

第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）

正品，发货速度也很快！这款蓝光刻录机支持16倍速，而且非常静音，刻录数十G光盘?最佳选手。省时间啊！美中不足没有附赠刻录软件