比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展
同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势
用起来方便，装好也完美，很契合原机。比较轻薄啊，很轻，读盘性能可以，等着试试刻录
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力
明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
读盘速度：读盘很快，速度很美，相当不错 读盘声音：很安静，振动也很小，不错！ 稳定性能：长时间使用，经常用，能稳定运行两年多，前一个也是这一款！ 轻薄程度：台式机用，厚度固定了，这个无所谓了！ 外形外观：外形就那样，台式机光驱没有啥特别的外形！ 产品包装：包装很好，外面是个纸箱，里面是商品的包装，有减震
中国光刻机难在哪里
很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年
在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机
半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段
物流快得惊人，头一天下午下单第二天早上就到了，神速啊，送家里了，下班后试试产品会追评。
??先锋8倍速 USB2.0外置光驱DVD刻录机，连接笔记本电脑，质量可靠非常满意，刻录机很好，收到后就安装上，就刻了一张cD盘和一张D9盘，非常不错。
读盘速度：8倍速，速度一点也不卡顿。先锋在光存储领域有着多年研发经验,是做刻录机的大品牌。 读盘声音：声音不大，外接放置也很稳。 轻薄程度：轻薄，手感很好。 外形外观：黑色磨砂质感，看起来稳重显高级。 产品包装：盒子里有防震保护，盒子外面套塑料袋，干净。 快递速度特别快，从下单到拿到手，只用了不到5个小时。
多次购买，用的都是这品牌，质量没的说，全五星，刻录很快，快递很快！电脑已经发走了，也没来得及试，这个价格很便宜，包装也很好，沉甸甸的，总体很棒