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光刻机无锡

国际品牌日本先锋，光储存行业老牌巨头出品的入门级内置式DVD刻录机，兼容CD、VCD、DVD读取，CD-R、CD-RW写入，DVD-R、DVD RW双层写入，读盘性能稳定，迅速安静，后背为铝制外壳，非常坚固，还附带安装螺丝，非常高性价比的一款DVD刻录机！强烈推荐！

IBM表示，明年会推出量子为中心的超级计算机，实现对现在这种硅基芯片超算的碾压

而中国在量子计算这样的领域，肯定也不会借过，毕竟硅基芯片落后了后，我们更需要换道超车，在量子计算上领先才行

稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻

ASML 官宣新一代光刻机研发进展

买了三个光驱，反馈都很不错，声音小，噪声小，刻盘的速度很快，跟之前的光驱比的确不是一个档次，之前光驱识别光盘都很困难，这个很快就能识别出来，真的是大赞。京东速度还是一如既往地快，让人赞不绝口，以后还是继续支持京东?

”此外，根据台积电早前消息，公司今年资本支出为 400 亿美元至 440 亿美元，多数用于先进制程

在今年 6 月 17 日举行的技术研讨会上，台积电研发高级副总裁米玉杰表示：“展望未来，台积电将在 2024 年引入高数值孔径的极紫外（高 NA EUV）光刻机，为的是开发客户所需相关基础设施和模式解决方案，进一步推动创新

光刻机没能到来

读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好

用于生产 2nm 芯片的 ASML 新款光刻机预计在 2025 年首次投入使用，对芯片厂商而言，“2nm 工艺战”已经打响

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

一台阿斯麦光刻机售价1亿美元

除了设备过于昂贵之外，EUV光刻机的耗电量也是剧增，据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%，如果引入第二代EUV光刻机，预计耗电量将进一步上涨，不知中国台湾能否撑得住，昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受，这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵

很好的刻录光驱，可以8倍速刻录光盘，先锋的光驱产品一直是行业领先的存在，上大学的时候就用的先锋的刻录光驱，现在已经毕业多年，这次公司要买个可以刻录的光驱，第一反应选择了先锋的光驱，很不错，京东的小哥送货上门，好好的服务。

很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！

读盘速度：速度快。 读盘声音：声音小。刻录声音也不大。 稳定性能：性能稳定。 产品包装：包装很好。

而在芯片的研发制造过程中，就需要用到一个非常重要的设备，这个核心装备就是“光刻机”，目前在国际上，光刻机的三大企业，分别是阿斯麦、尼康和佳能，特别是阿斯麦，中高端市场的占有率达到了60%以上，而在存高端的顶级市场中，占有率更是达到了100%，可以说完全没有对手

ASML 官宣新一代光刻机研发进展

在发力 0.33 NA EUV 光刻机的同时，ASML 也在冲刺研发 0.55 NA EUV 光刻机

ASML 高 NA 系统路线图ASML 发言人向媒体介绍，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小 1.7 倍、同时密度增加 2.9 倍

中国什么时候研发出光刻机

轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期

可以的，声音小振动也小，支持的格式全面，试刻了一张CD很满意；还专门试了下DVD -RAM格式，也是支持读写的；颜值手感都很在线！就看寿命了，暂时是推荐购买的?

读盘速度：先锋存储名不虚传啊，原来用的也是先锋的，用了有10年，终于退休了 读盘声音：声音很小，几乎听不到 稳定性能：稳定性超强，刻录CD非常快，音质也超棒 轻薄程度：外置光驱吗，都一样薄厚，没有太厚的 外形外观：外观就是比原来的降了档次，原来的机器都是金属外壳，现在的是工程PVC的，更轻一些 产品包装：产品包装结实，原封装，没动过，全新

现在这年代还在用光驱的不多了吧，连机箱也没几个说特意有留位置的，要么就是复古机箱，非常难看……至于光驱还是信赖老牌子，用先锋我是很放心的！

用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构

日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展

我国之所以迟迟无法独自制造出高端芯片，主要还是EUV光刻机被卡了脖子

在光刻机领域，荷兰ASML公司拥有着绝对的话语权，垄断着全球EUV光刻机市场，决定着台积电、三星、英特尔等芯片制造企业高端芯片的走向

据公开数据显示，ASML公司所制造的EUV光刻机所使用的美国技术和元器件的比例高达30％，也正是因为这个原因，老美才有了挟“人类智慧的结晶”令世界“芯片”的实力和底气

近期，世界半导体行业传出多条重磅消息，直接验证了彼得・维尼克的预言，EUV光刻机时代开始“落幕”！首先，即将成为“美积电”的台积电牵头成立了“3D Fabric”联盟，大力发展3D封装技术

众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片

使用方便，安装简单，调配容易，效果不错，非常好用，商品很好很不错，性价比很高，物美价廉，非常好的一次购物体验

按照Zyvex的说法，这台ZyvexLitho1是可以商用的，还可以接受别人的订单，具体多少钱一台，不清楚，但机器对方可以在6个月内出货