ASML 官宣新一代光刻机研发进展
在发力 0.33 NA EUV 光刻机的同时，ASML 也在冲刺研发 0.55 NA EUV 光刻机
ASML 高 NA 系统路线图ASML 发言人向媒体介绍，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小 1.7 倍、同时密度增加 2.9 倍
中国什么时候研发出光刻机
轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期
我们这个月还收到额外的 EXE:5200 订单
我们目前已有来自三个逻辑芯片和两个存储芯片客户的高 NA 订单
EXE:5200 是 ASML 的下一代高 NA 系统，将为光刻技术的性能和生产力提供下一步的发展
读盘速度：读盘速度快，我喜欢。读盘声音：声音也不大，不像二手的。稳定性能：性能也很稳定。非常好用，以前不能读取的光盘现在可以了。刻录功能是我的首先。还没试，稍后有空再操作！
三星方面，据韩媒 Business Korea 报道，李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时，拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管，广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应，并取得“额外”的 EUV 光刻机设备
用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构
日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展
根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现
非常满意，性价比高，品质很好，赞赞赞！！！俊秀的外表，优雅的气质，卓越的性能，完美。
即便如此，0.55 NA EUV 光刻机还是得到了芯片厂商的火热预购
毕竟，这是研发 2nm 工艺的芯片的必选项
在各大芯片厂商中，英特尔的速度最快
今年 1 月 19 日，英特尔向 ASML 订购了最新款高 NA EXE:5200 光刻机
和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。
在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封