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光刻机_雕刻机_曝光系统

比EUV光刻机更先进:美企研发全新光刻机,木板激光刻机工作原理

读写速度快,很好用,读写速度快,质量好,价格实惠,物流快,非常满意的一次购物。

众所周知,目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机,能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中,到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机,数值孔径变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,可以制造2nm,以及1.8nm的芯片

比EUV光刻机更先进:美企研发全新光刻机

很好。安装好后一点就亮!先锋的就是好用!不挑碟的机子!一直信赖着。还以为它不会出新产品了呢!?赞!

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